[發明專利]一種基于穆勒矩陣的套刻誤差提取方法有效
| 申請號: | 201210544767.1 | 申請日: | 2012-12-13 |
| 公開(公告)號: | CN103049605A | 公開(公告)日: | 2013-04-17 |
| 發明(設計)人: | 劉世元;朱金龍;董正瓊;石雅婷 | 申請(專利權)人: | 華中科技大學 |
| 主分類號: | G06F17/50 | 分類號: | G06F17/50 |
| 代理公司: | 華中科技大學專利中心 42201 | 代理人: | 曹葆青 |
| 地址: | 430074 湖北*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 基于 穆勒 矩陣 誤差 提取 方法 | ||
1.一種基于穆勒矩陣的套刻誤差提取方法,包括下述過程:
第1步確定套刻偏移量的取值范圍,設定為-Λ/2~Λ/2,Λ為套刻樣件的周期大小;
第2步將范圍-Λ/2~Λ/2等距離散成M個點,對每個點計算對應額穆勒矩陣,則M個套刻偏移量值分別對應著M個不同的穆勒矩陣,即有套刻偏移量集合{O1,O2,...,OM};
第3步對套刻偏移量集合{O1,O2,...,OM}中的M個套刻偏移量值分別對應著的M個不同的穆勒矩陣中M13、M31、M23和M32元素在所有波長點下的值求和,和值分別記為SM13、SM31、SM23和SM32;則得到M個SM13、SM31、SM23和SM32,將SM13與SM31一一對應相加,將SM23和SM32一一對應相加,則得到兩個集合{S1M13+S1M31,S2M13+S2M31,...,SMM13+SMM31}和{S1M23+S1M32,S2M23+S2M32,...,SMM23+SMM32};
第4步將集合{O1,O2,...,OM}和{S1M13+S1M31,S2M13+S2M31,...,SMM13+SMM31}中每一元素一一對應組成M個點{(O1,S1M13+S1M31),(O2,S2M13+S2M31),...,(OM,SMM13+SMM31)},在笛卡爾坐標系中描繪這些點并一一連接起來,找到一段直線區間,分別記為LM13+M31,這段直線在x坐標上對應的線性范圍分別為ΛM13+M311~ΛM13+M312;同樣地,將集合{O1,O2,...,OM}和{S1M23+S1M32,S2M23+S2M32,...,SMM23+SMM32}中每一元素一一對應組成M個點{(O1,S1M23+S1M32),(O2,S2M23+S2M32),...,(OM,SMM23+SMM32)},在笛卡爾坐標系中描繪這些點并一一連接起來,得到另一段直線,記為LM23+M32,確定這段線性區間在x坐標上對應的線性范圍,即ΛM23+M321~ΛM23+M322;
第5步設計并制作具有某一名義偏移量Onom的套刻樣件,并使設計套刻偏移量處于范圍ΛM13+M311~ΛM13+M312或ΛM23+M321~ΛM23+M322的任意一個之中;
第6步對套刻樣件測量其穆勒矩陣,分別計算M13、M31、M23和M32元素中所有波長點下的值之和,分別記作SmeaM13,SmeaM31、SmeaM23和SmeaM32;
第7步首先利用SmeaM13+SmeaM31值在直線段LM13+M31上找到對應的點,找到的點坐標記為(O1mea,SmeaM13+SmeaM31),O1mea即為真實偏移量值Oreal。或者利用SmeaM23+SmeaM32值在直線段LM23+M32上找到對應的點,找到的點坐標記為(O2mea,SmeaM23+SmeaM32),O2mea即為真實偏移量值Oreal;
第8步用真實偏移量值Oreal減去名義設計的偏移量值Onom,即得到套刻誤差δ。
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