[發(fā)明專利]納米多孔銅薄膜的制備方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210544649.0
• 申請日: 2012-12-17
• 公開（公告）號: CN103014626A
• 公開（公告）日: 2013-04-03
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 蘇江濱;蔣美萍;王紅紅
• 申請（專利權(quán)）人: 常州大學(xué)
• 主分類號: C23C14/14
• 分類號: C23C14/14;C23C14/35
• 代理公司: 南京知識律師事務(wù)所 32207
• 代理人: 李媛媛

1.納米多孔銅薄膜的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

1）采用JGP500A型平衡磁控濺射鍍膜系統(tǒng)，先將干凈的絕緣載玻片固定在樣品盤上作為NPC薄膜的間接襯底，再將純度為99.99%的銅靶安裝在射頻源上，并調(diào)節(jié)襯底與銅靶之間的距離為15cm；

2）關(guān)上腔門抽真空至5.0×10^-4?Pa，然后通流量為15sccm、純度為99.999%的高純Ar氣，并保持腔室氣壓為0.1pa；

3）在室溫和施加0V或–100V直流偏壓條件下，用RF100W的功率先在絕緣載玻片上預(yù)濺射一層金屬銅膜，作為NPC薄膜的直接襯底；

4）在室溫和施加–100V直流偏壓條件下，再用RF100W的功率作進(jìn)一步濺射沉積，誘導(dǎo)入射銅原子在銅膜襯底表面上進(jìn)行選擇性優(yōu)先沉積，制備得到NPC薄膜。

2.?根據(jù)權(quán)利要求1所述的納米多孔銅薄膜的制備方法，其特征在于：所述步驟3）中的銅膜厚度為30nm，所述步驟4）中NPC薄膜的厚度為120nm。

3.?根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的納米多孔銅薄膜的制備方法，其特征在于：所述步驟3）中，當(dāng)施加0V直流偏壓時，制備得到的NPC薄膜為多孔的三棱柱狀結(jié)構(gòu)，其中三棱柱的截面尺寸為42nm，溝壑寬度為20nm；當(dāng)施加–100V直流偏壓時，制備得到的NPC薄膜為雙連續(xù)的“三角韌帶–孔道”結(jié)構(gòu)，其中三角韌帶的截面尺寸為21nm，孔道尺寸為12nm。