[發明專利]復合膜、制備方法和電池

有效

• 申請號: 201210543821.0
• 申請日: 2012-12-14
• 公開（公告）號: CN103094515A
• 公開（公告）日: 2013-05-08
• 發明（設計）人: 曹志鋒;張勝剛
• 申請（專利權）人: 深圳中興創新材料技術有限公司
• 主分類號: H01M2/16
• 分類號: H01M2/16;B32B27/08;B32B27/32;C08J9/36;C08J9/28
• 代理公司: 深圳鼎合誠知識產權代理有限公司 44281
• 代理人: 羅瑤

1.一種復合膜，所述復合膜以聚烯烴微孔膜為基膜，且在該基膜的至少一個表面上具有包含耐高溫聚合物的多孔層，其特征在于，所述耐高溫聚合物包含如式I所示的二氮雜萘酮聯苯結構：

其中，R₁、R₂、R₃、R₄可以相同或不同，分別選自氫、鹵素取代基、烷基、烷氧基、苯基及苯氧基。

2.根據權利要求1所述的復合膜，其特征在于，所述耐高溫聚合物含如式Ⅱ所示的重復單元：

其中，R₁、R₂、R₃、R₄可以相同或不同，分別選自氫、鹵素取代基、烷基、烷氧基、苯基及苯氧基；

Ar選自以下A、B、C和D中的至少一種：

D中R為氫、鹵素取代基、烷基、烷氧基、苯基或苯氧基。

3.根據權利要求1或2所述的復合膜，其特征在于，所述耐高溫聚合物的玻璃轉變溫度大于等于200℃。

4.根據權利要求1或2所述的復合膜，其特征在于，所述耐高溫聚合物的重均分子量為1×10⁴-1×10⁶；優選的，所述重均分子量為1×10⁴-2×10⁵。

5.根據權利要求1或2所述的復合膜，其特征在于，所述多孔層還包含有無機粒子。

6.根據權利要求1或2所述的復合膜，其特征在于，所述多孔層厚度為1-20μm。

7.根據權利要求1或2所述的復合膜，其特征在于，所述多孔層具有大于等于50%的孔隙率。

8.一種制備權利要求1-7任一項所述的復合膜的方法，所述方法包括：配置含有所述耐高溫聚合物的聚合物溶液作為涂布漿料，將所述涂布漿料施加到所述基膜的至少一個表面上，再使涂布漿料從聚合物溶液發生聚合物富相和貧相的相分離，形成具有多孔層的復合膜。

9.根據權利要求8所述的復合膜制備方法，其特征在于，所述方法包括：將含有所述耐高溫聚合物、無機粒子、至少一種可以溶解所述耐高溫聚合物的良溶劑和至少一種不能溶解所述耐高溫聚合物的貧溶劑的涂布漿料施加到所述基膜的至少一個表面上，進行干燥形成具有多孔層的復合膜；或

所述方法包括：將含有所述耐高溫聚合物、無機粒子、至少一種可以溶解所述耐高溫聚合物的良溶劑的涂布漿料施加到所述基膜的至少一個表面上，浸漬于可以溶解涂布漿料中的良溶劑但不能溶解所述耐高溫聚合物的貧溶劑中，之后進行干燥形成具有多孔層的復合膜。

10.一種電池，其特征在于，所述電池包括權利要求1-7任一項所述的復合膜。