[發明專利]一種濕法去除冶金級硅中雜質B的方法有效
| 申請號： | 201210539824.7 | 申請日： | 2012-12-14 |
| 公開（公告）號： | CN102992326A | 公開（公告）日： | 2013-03-27 |
| 發明（設計）人： | 謝克強;馬文會;麥毅;魏奎先;周陽;伍繼君;呂國強;朱文杰;劉大春;楊斌;戴永年 | 申請（專利權）人： | 昆明理工大學 |
| 主分類號： | C01B33/037 | 分類號： | C01B33/037 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 650093 云*** | 國省代碼： | 云南;53 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 濕法 去除 冶金 級硅中 雜質 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種濕法去除冶金級硅中雜質B的方法，其特征在于經過下列各步驟：
（1）將冶金級硅破碎細磨成-100～-600目的硅粉；
（2）將步驟（1）的硅粉按液固比為2:1～10:1加入到由氯化銨、氟化鈉和甲醇組成的混合水溶液中，再加熱至40～100℃進行攪拌浸出0.5～7h；
（3）將步驟（2）的混合物進行液固分離后，再將濾餅用水洗滌數次至中性后烘干，即得到除雜質B的冶金級硅。
2.根據權利要求1所述的濕法去除冶金級硅中雜質B的方法，其特征在于：所述步驟（2）的混合水溶液中氯化銨的質量分數為5%～30%，氟化鈉的質量分數為2%～20%，甲醇的體積分數為5%～60%。
3.根據權利要求1所述的濕法去除冶金級硅中雜質B的方法，其特征在于：所述步驟（3）中水為純凈水。
4.根據權利要求1所述的濕法去除冶金級硅中雜質B的方法，其特征在于：所述步驟（3）中液固分離是采用常規壓濾機或者真空抽濾進行分離。
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