[發明專利]磁控濺射源驅動裝置及磁控濺射加工設備

有效

• 申請號: 201210539550.1
• 申請日: 2012-12-13
• 公開（公告）號: CN103866250A
• 公開（公告）日: 2014-06-18
• 發明（設計）人: 邱國慶;武學偉
• 申請（專利權）人: 北京北方微電子基地設備工藝研究中心有限責任公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35
• 代理公司: 北京天昊聯合知識產權代理有限公司 11112
• 代理人: 彭瑞欣;張天舒

1.一種磁控濺射源驅動裝置，包括殼體、驅動源和傳動單元，其中，所述殼體與所述驅動源的轉軸固定連接；所述傳動單元設置在所述殼體內，并分別與所述驅動源的轉軸和磁控濺射源連接；在所述驅動源的驅動下，所述殼體、傳動單元和磁控濺射源繞所述驅動源的轉軸作旋轉運動，同時，所述磁控濺射源在所述傳動單元的帶動下作旋轉運動；其特征在于，

所述傳動單元包括：第一錐齒輪、第二錐齒輪、聯動桿和轉向組件，其中

所述第一錐齒輪相對于所述殼體可自轉地套制在所述驅動源的轉軸上；

所述聯動桿的軸線與所述驅動源的轉軸的軸線相互垂直，所述第二錐齒輪設置在所述聯動桿的一端，且與所述第一錐齒輪相配合；

所述轉向組件包括第一轉向件和第二轉向件，其中，所述第一轉向件設置在所述聯動桿的另一端；所述第二轉向件與所述第一轉向件相配合，并且所述第二轉向件與所述磁控濺射源連接。

2.根據權利要求1所述的磁控濺射源驅動裝置，其特征在于，所述傳動單元還包括從動軸，所述從動軸位于所述殼體內，且可自轉地與所述殼體連接，并且所述從動軸的一端延伸至所述殼體的外部且與所述磁控濺射源固定連接；

所述第二轉向部件設置在所述從動軸上，且與所述第一轉向件相配合；

所述從動軸的軸線與所述聯動桿的軸線相互垂直。

3.根據權利要求2所述的磁控濺射源驅動裝置，其特征在于，所述第一轉向部件和第二轉向部件分別為相互配合的第三錐齒輪和第四錐齒輪。

4.根據權利要求2所述的磁控濺射源驅動裝置，其特征在于，所述第一轉向部件和第二轉向部件分別為相互配合的蝸桿和蝸輪，并且

所述蝸桿的軸線與所述聯動桿的軸線重合。

5.根據權利要求4所述的磁控濺射源驅動裝置，其特征在于，所述蝸桿與所述聯動桿采用連為一體或焊接的方式固定連接。

6.根據權利要求1所述的磁控濺射源驅動裝置，其特征在于，所述驅動源包括電缸、氣缸或液壓驅動。

7.根據權利要求2所述的磁控濺射源驅動裝置，其特征在于，所述從動軸的一端設置有第一連接板和第一配重，其中

所述第一連接板的靠近中心的位置與所述從動軸延伸至所述殼體的外部的一端固定連接，并且所述第一連接板的兩端分別與所述磁控濺射源和所述第一配重固定連接；

所述第一配重用于平衡所述從動軸在其徑向方向上的力矩。

8.根據權利要求1所述的磁控濺射源驅動裝置，其特征在于，所述磁控濺射源驅動裝置還包括第二連接板和第二配重，其中

所述第二配重借助所述第二連接板與所述殼體固定連接，用以平衡所述驅動源的轉軸在其徑向方向上的力矩。

9.根據權利要求2所述的磁控濺射源驅動裝置，其特征在于，所述磁控濺射源和所述從動軸之間的中心距與所述磁控濺射源的半徑之和不小于所述從動軸和所述驅動源的轉軸之間的中心距。

10.一種磁控濺射加工設備，包括工藝腔室、靶材、磁控濺射源以及磁控濺射源驅動裝置，靶材設置在工藝腔室的頂部，磁控濺射源設置在靶材上方，并在磁控濺射源驅動裝置的驅動下在靶材表面運動，其特征在于，所述磁控濺射源驅動裝置采用權利要求1-9中任意一項所述的磁控濺射源驅動裝置。