[發明專利]偏光膜的制造方法有效
| 申請號： | 201210536281.3 | 申請日： | 2012-12-12 |
| 公開（公告）號： | CN103163583A | 公開（公告）日： | 2013-06-19 |
| 發明（設計）人： | 森智博;宮武稔;上條卓史;后藤周作;喜多川丈治 | 申請（專利權）人： | 日東電工株式會社 |
| 主分類號： | G02B5/30 | 分類號： | G02B5/30;G02B1/10 |
| 代理公司： | 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 劉新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 偏光 制造 方法 | ||
1.一種偏光膜的制造方法，包括：
在具有7%以下的結晶度的熱塑性樹脂基材上形成聚乙烯醇類樹脂層從而生產層壓體；以及
使所述層壓體進行濕式處理，其后用加熱輥進行干燥處理。
2.根據權利要求1所述的偏光膜的制造方法，其中所述熱塑性樹脂基材包括聚對苯二甲酸乙二醇酯類樹脂。
3.根據權利要求2所述的偏光膜的制造方法，其中所述聚對苯二甲酸乙二醇酯類樹脂具有間苯二甲酸單元。
4.根據權利要求3所述的偏光膜的制造方法，其中相對于所有重復單元的總和，所述間苯二甲酸單元的含量比為0.1mol%以上至20mol%以下。
5.根據權利要求1所述的偏光膜的制造方法，其中所述加熱輥具有50℃以上的溫度。
6.根據權利要求1所述的偏光膜的制造方法，其中所述加熱輥具有80℃以上的溫度。
7.根據權利要求1所述的偏光膜的制造方法，其中所述熱塑性樹脂基材在所述干燥處理后具有15%以上的結晶度。
8.根據權利要求1所述的偏光膜的制造方法，其中所述熱塑性樹脂基材在所述干燥處理后具有20%以上的結晶度。
9.根據權利要求1所述的偏光膜的制造方法，其中所述熱塑性樹脂基材的結晶度通過所述干燥處理提高了2%以上。
10.根據權利要求1所述的偏光膜的制造方法，其中所述濕式處理包括通過使所述層壓體浸漬在硼酸水溶液中而進行的拉伸處理。
11.一種偏光膜，其通過根據權利要求1所述的偏光膜的制造方法而獲得。
12.一種光學層壓體，其包括根據權利要求11所述的偏光膜。
13.根據權利要求12所述的光學層壓體，其進一步包括所述熱塑性樹脂基材。
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