[發明專利]流體控制閥

有效

• 申請號: 201210535862.5
• 申請日: 2012-12-12
• 公開（公告）號: CN103161986A
• 公開（公告）日: 2013-06-19
• 發明（設計）人: 巖田洋輝;竹田秀行
• 申請（專利權）人: 喜開理株式會社
• 主分類號: F16K27/02
• 分類號: F16K27/02;F16K7/12
• 代理公司: 中原信達知識產權代理有限責任公司 11219
• 代理人: 高培培;車文

技術領域

本發明涉及在半導體制造裝置中使用的流體控制閥，特別是涉及流體控制閥的閥主體和安裝板的卡定構造。

背景技術

在半導體制造裝置的清洗工藝中，為了應對半導體晶圓的大型化、芯片的微細化及配線的多層化等，使用大量的流體控制閥。例如，專利文獻1公開有如下所述的閥卡定構造：可以容易地設置流體控制閥，另外也可以簡單地與設置位置的變更等對應。

專利文獻1的技術是將閥主體與促動器的組裝體一起固定于裝置板上，且將裝置板卡定在與半導體制造裝置螺合的閥裝置托架的規定位置的技術。具體而言，閥卡定構造是在向形成于閥裝置托架上表面的一側部的保持夾的開口插入向裝置板突出設置的引板并扣合，且將向閥裝置托架上表面的另一側突出的引板前端的鉤與形成于裝置板側面的隆起部卡定。

專利文獻1：日本特表2004－526919號公報

然而，在專利文獻1記載的技術中具有下面的問題。

在專利文獻1的技術中，在向形成于閥裝置托架上表面的一側部的保持夾的開口插入向裝置板突出設置的引板并扣合時，需要傾斜插入閥主體，因此，在插入引板時，有可能與設置于相鄰位置的其它流體控制閥干涉。因此，在和相鄰的流體控制閥之間必須空出不發生干涉的程度的間隔。因此，在專利文獻1的技術中存在不能將盡可能多的流體控制閥設置于有限的空間內這種空間效率上的問題。

另外，專利文獻1的技術因為是向形成于閥裝置托架上表面的一側部的保持夾的開口插入向裝置板突出設置的引板并扣合，且將向閥裝置托架上表面的另一方突出的引板前端的鉤與形成于裝置板側面的隆起部卡定的閥卡定構造，因此，突出的引板彎曲時，鉤有可能從隆起部脫離。因此，將鉤卡定后，在裝置板上設置有將裝置板固定在閥裝置托架的螺紋引板。因此，在專利文獻1的技術中由于需要卡定單元和固定單元這兩者，所以具有安裝作業煩雜的問題。

此外，在近年的半導體制造裝置的清洗工序中，與半導體晶圓大型化、芯片微細化及配線的多層化等對應，因此單片清洗已成為主流。單片清洗因將半導體晶圓逐片清洗，所以要求每一次的清洗時間縮短。因此，例如，在使用了硫酸等藥液的清洗中，為了促進化學反應，使藥液的溫度達到高溫（80～90℃左右）而向清洗噴嘴供給。因此，藥液控制閥及其配管因從常溫至高溫（80～90℃左右）變化的藥液溫度而反復膨脹收縮。該膨脹收縮成為藥液控制閥安裝部的松動的原因。因此，實現難以受到這種溫度變化（加熱循環）產生的影響的閥安裝構造的必要性較高。

另外，成為松動的原因的外力不僅具有從相對于藥液控制閥安裝部的前后左右方向作用的情況，而且還具有作用于繞軸心旋轉的方向的情況。

發明內容

本發明是為了解決上述問題點而做出，其目的在于，提供一種確保空間效率并能夠簡單卡定，難以受到包含流體的溫度變化（加熱循環）的各種外力產生的影響，能夠可靠地使閥主體和安裝板卡定的流體控制閥。

為了解決上述問題，本發明的流體控制閥具有下面的構成。

（1）一種流體控制閥，具備：閥主體，其具有形成于相對的側面的輸入端口和輸出端口；及安裝板，其安裝于該閥主體的下端，所述流體控制閥的特征在于，在所述閥主體上的與所述相對的側面正交的方向的兩側面形成有卡定突起，并在與該卡定突起相對的所述安裝板的上端立起設置有卡定臂，該卡定臂具有與所述卡定突起扣合的卡定爪，在所述閥主體下端繞軸心形成有環狀肋，在所述安裝板的上端立起設置有壓入肋，該壓入肋具有被壓入到該環狀肋的壁面的壓入部。

（2）在（1）所述的流體控制閥中，優選在所述安裝板上突出設置有支承肋，該支承肋在所述輸入端口側及輸出端口側支承比所述環狀肋靠外周側的所述閥主體的下端。

（3）在（1）或（2）所述的流體控制閥中，優選在所述環狀肋的壁面形成有與所述壓入肋的除所述壓入部以外的壁面抵接的凹槽。

（4）在（1）或（2）所述的流體控制閥中，優選所述壓入肋以軸心對稱的方式配置多個。

（5）在（1）或（2）所述的流體控制閥中，優選所述壓入部從所述壓入肋的基部起形成至規定的高度。

（6）在（1）或（2）所述的流體控制閥中，優選所述壓入肋具有沿著所述環狀肋的壁面的彎曲部，在該彎曲部設有所述壓入部。

（7）在（1）或（2）所述的流體控制閥中，優選在所述安裝板的上端的與所述卡定臂相鄰的位置形成有支承所述閥主體的下端的支承座。

（8）在（1）或（2）所述的流體控制閥中，優選所述卡定爪的內周面形成為將所述閥主體的外周面抱入的形狀。