[發(fā)明專利]一種π型SCR脫硝反應(yīng)器均布流場(chǎng)的導(dǎo)流裝置及方法

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201210532767.X
• 申請(qǐng)日: 2012-12-12
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN103007749A
• 公開(kāi)（公告）日: 2013-04-03
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 沈丹;楊百忍;楊蕾;陳天明;吳剛;趙晟;喬慧萍
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 鹽城工學(xué)院
• 主分類號(hào): B01D53/90
• 分類號(hào): B01D53/90;B01D53/56
• 代理公司: 暫無(wú)信息
• 代理人: 暫無(wú)信息

1.一種π型選擇性催化還原法脫硝反應(yīng)器均布流場(chǎng)的導(dǎo)流裝置及方法，包括反應(yīng)器前部煙道導(dǎo)流板(1)、反應(yīng)器入口處導(dǎo)流板(2)與整流器(3)，其特征在于：所述導(dǎo)流板是兩組導(dǎo)流裝置，一處位于反應(yīng)器前部煙道處，為均勻分布的3塊弧度直板，一處位于反應(yīng)器本體上方處，為非均勻分布的弧度直板，所述的整流器是煙氣經(jīng)兩組導(dǎo)流板之后的再次導(dǎo)流，位于第一層催化劑上方，為均勻分布的正方形格子。?

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的π型選擇性催化還原法脫硝反應(yīng)器均布流場(chǎng)的導(dǎo)流裝置及方法，其特征是：所述的導(dǎo)流板(2)，即弧度直板(Y1、Y2、Y3)均勻分布在反應(yīng)器前部彎角煙道，由反應(yīng)器前部彎煙道90℃彎角弧度與兩端點(diǎn)相切、長(zhǎng)度為R的直線共同組成的，弧度的中心點(diǎn)定位在直線8的三個(gè)均分點(diǎn)上。?

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的π型選擇性催化還原法脫硝反應(yīng)器均布流場(chǎng)的導(dǎo)流裝置及方法，其特征是：所述的導(dǎo)流板(2)，即弧度直板(X1-X9)非均勻分布在反應(yīng)器上方，由反應(yīng)器內(nèi)彎管道的90℃彎曲弧度(10)并在與弧相切的垂直末端加上長(zhǎng)度為半徑R的直線，其布置方式為X1-X5均勻布置在線(9)的前半段的五個(gè)均分點(diǎn)上，X6位于對(duì)角線(9)中心點(diǎn)，X7-X9位于對(duì)角線(9)后半段三個(gè)均分點(diǎn)上。?

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的π型選擇性催化還原法脫硝反應(yīng)器均布流場(chǎng)的導(dǎo)流裝置及方法，其特征是：整流器(3)的布置與催化劑模塊單元相對(duì)應(yīng)，每個(gè)模塊單元(11)對(duì)應(yīng)均布的四個(gè)正方形整流器格子(12)。?