[發(fā)明專利]一種半透半反藍(lán)相液晶顯示面板及液晶顯示裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210530815.1 | 申請日: | 2012-12-10 |
| 公開(公告)號: | CN102981324B | 公開(公告)日: | 2017-07-14 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 謝暢 | 申請(專利權(quán))人: | 京東方科技集團(tuán)股份有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/1343 | 分類號: | G02F1/1343;G02F1/137 |
| 代理公司: | 北京銀龍知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司11243 | 代理人: | 許靜,黃燦 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 半透半反藍(lán)相 液晶顯示 面板 液晶 顯示裝置 | ||
1.一種半透半反藍(lán)相液晶顯示面板,包括第一基板、與所述第一基板相對設(shè)置的第二基板、以及設(shè)置于所述第一基板和所述第二基板之間的液晶層;其中所述第一基板和所述第二基板包括若干子像素,每一所述子像素包括反射區(qū)和透射區(qū);其特征在于:
所述液晶層為藍(lán)相液晶層;
所述反射區(qū)和所述透射區(qū)的液晶盒厚相等;
所述第二基板對應(yīng)于透射區(qū)的部分設(shè)置有多個(gè)等間距交替排布的第一公共電極和第一像素電極;
所述第一基板對應(yīng)于反射區(qū)的部分設(shè)置有一對應(yīng)于整個(gè)反射區(qū)設(shè)置的第二公共電極,所述第二基板對應(yīng)于反射區(qū)的部分設(shè)置有一對應(yīng)于反射區(qū)設(shè)置的第二像素電極,所述第二像素電極中心形成有空孔;
所述第一公共電極與所述第二公共電極的電壓相等;
所述空孔為圓形的空孔。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半透半反藍(lán)相液晶顯示面板,其特征在于,
所述第一基板包括:
第一襯底基板;
所述第二公共電極形成于所述第一襯底基板的靠近所述第二基板的一側(cè),并對應(yīng)于整個(gè)所述反射區(qū)設(shè)置。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半透半反藍(lán)相液晶顯示面板,其特征在于,
所述第二基板包括:
第二襯底基板;
形成于所述第二襯底基板的靠近所述第一基板的一側(cè),并對應(yīng)于整個(gè)反射區(qū)設(shè)置的反射層;
形成于所述第二襯底基板的靠近所述第一基板的一側(cè)并位于所述反射層之上,且對應(yīng)于整個(gè)反射區(qū)和透射區(qū)設(shè)置的絕緣層;
多個(gè)所述第一像素電極和所述第一公共電極形成于所述絕緣層的靠近所述第一基板的一側(cè),并對應(yīng)于所述透射區(qū)設(shè)置;
所述第二像素電極形成于所述絕緣層的靠近所述第一基板的一側(cè),并對應(yīng)于所述反射區(qū)設(shè)置。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半透半反藍(lán)相液晶顯示面板,其特征在于,
所述液晶盒厚為3~6μm;
所述第一像素電極和所述第一公共電極的寬度為1~3μm;
所述第一像素電極和所述第一公共電極的間距為4~8μm;
所述空孔的直徑為10~25μm;
所述空孔至所述第二像素電極的邊緣之間形成的區(qū)域的最小寬度為2~6μm。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的半透半反藍(lán)相液晶顯示面板,其特征在于,
所述液晶盒厚為4.4μm;
所述第一像素電極和所述第一公共電極的寬度為2μm;
所述第一像素電極和所述第一公共電極的間距為6μm;
所述空孔的直徑為18μm;
所述空孔至所述第二像素電極的邊緣之間形成的區(qū)域的最小寬度為4μm。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至5任一項(xiàng)所述的半透半反藍(lán)相液晶顯示面板,其特征在于,所述第一基板為彩膜基板;所述第二基板為陣列基板。
7.一種液晶顯示裝置,其特征在于,
包括如權(quán)利要求1-6任一項(xiàng)所述的液晶顯示面板。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的液晶顯示裝置,其特征在于,還包括:
形成于所述第一基板的第一襯底基板的遠(yuǎn)離所述第二基板的一側(cè),并對應(yīng)于所述反射區(qū)和透射區(qū)設(shè)置的第一偏光片;
形成于所述第二基板的第二襯底基板的遠(yuǎn)離所述第一基板的一側(cè),并對應(yīng)于所述反射區(qū)和透射區(qū)設(shè)置的第二偏光片。
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





