[發明專利]一種用于光刻設備的自參考干涉對準信號處理系統

有效

• 申請號: 201210530461.0
• 申請日: 2012-12-11
• 公開（公告）號: CN103869628A
• 公開（公告）日: 2014-06-18
• 發明（設計）人: 李運鋒
• 申請（專利權）人: 上海微電子裝備有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03F9/00
• 代理公司: 北京連和連知識產權代理有限公司 11278
• 代理人: 王光輝

1.一種用于光刻設備的自參考干涉對準信號處理系統，包括：

激光光源模塊，用于提供照明光束；

光學模塊，用于將來自標記衍射的光束進行光學處理，形成衍射光學信號；

電子采集模塊，用于將所述光學信號進行處理，獲得光強信號；

軟件模塊，用于對所述光強信號進行處理，并結合工件臺位置數據，獲得對準位置，消除光學噪聲；

????其特征在于，所述電子采集模塊中或者所述軟件模塊還包括一歸一化處理單元。

2.如權利要求1所述的自參考干涉對準信號處理系統，其特征在于，所述歸一化處理單元的處理公式為：

式中，為歸一化后的對準信號，為只包含高級光通道的光強信號，為包含零級光和高級光通道的光強信號；

?；

；

????其中，為對準勻速號掃描速度，為掃描時間，為標記初始位置，為標記的周期，為衍射的級次，N為進入光學通道的總衍射級次，可通過照明波長、光學系統的數值孔徑和光闌調整，為反射光（零級光）光強，和為零級光在兩個支路上的光強比例系數，且，；為第m級衍射光的光強，和為第m級衍射光A_1通道和A_2通道的光強比例系數，且和。

3.如權利要求2所述的自參考干涉對準信號處理系統，其特征在于，所述歸一化處理單元包括加法運算電路和除法運算電路。

4.如權利要求3所述的自參考干涉對準信號處理系統，其特征在于，所述加法運算電路采用反向加法運算電路、同向加法運算電路；所述除法運算電路采用指數運算電路或減法運算電路和對數運算電路的串聯實現。

5.如權利要求2所述的自參考干涉對準信號處理系統，其特征在于，所述歸一化處理單元中，和通道的增益系數、相位延遲一致。