[發明專利]一種在常溫弱堿性條件下制備強還原性二氧化硫脲溶液的方法有效
| 申請號： | 201210529875.1 | 申請日： | 2012-12-11 |
| 公開（公告）號： | CN102976286A | 公開（公告）日： | 2013-03-20 |
| 發明（設計）人： | 夏光華;譚訓彥;趙曉東 | 申請（專利權）人： | 景德鎮陶瓷學院 |
| 主分類號： | C01B17/98 | 分類號： | C01B17/98 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 333001 *** | 國省代碼： | 江西;36 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 常溫 弱堿 條件下 制備 原性 氧化 硫脲 溶液 方法 | ||
1.一種在常溫弱堿性條件下制備強還原性二氧化硫脲溶液的方法，其特征在于：包括以下步驟：
第一步：先將二氧化硫脲加入水中配制二氧化硫脲溶液；
第二步：將碘代烷、胺類、腐植酸鈉加入到第一步配制的二氧化硫脲溶液中；
第三步：將第二步的混合溶液經攪拌后，置于超聲波振蕩器中進行催化反應后，獲得強還原性的二氧化硫脲溶液。
2.根據權利要求1所述的制備強還原性二氧化硫脲溶液的方法，其特征在于：所述第一步配制的二氧化硫脲溶液的質量百分比濃度為3～10%。
3.根據權利要求1所述的制備強還原性二氧化硫脲溶液的方法，其特征在于：所述第二步中的碘代烷為CH3I或CH2I2。
4.根據權利要求1所述的制備強還原性二氧化硫脲溶液的方法，其特征在于：所述第二步中的胺類為氨水、甲胺或乙二胺。
5.根據權利要求1所述的制備強還原性二氧化硫脲溶液的方法，其特征在于：所述第三步中的超聲波振蕩器輸出功率為200～1000W，頻率為20～40kHz。
6.根據權利要求1-5任一所述的制備強還原性二氧化硫脲溶液的方法，其特征在于：所述第二步中的碘代烷添加量為二氧化硫脲質量的0.1～2%。
7.根據權利要求1-5任一所述的制備強還原性二氧化硫脲溶液的方法，其特征在于：所述第二步中的胺類的添加量為二氧化硫脲質量的0.2～3%。
8.根據權利要求1-5任一所述的制備強還原性二氧化硫脲溶液的方法，其特征在于：所述第二步中的腐植酸鈉的添加量為二氧化硫脲質量的0.1～1%。
9.根據權利要求1-5任一所述的制備強還原性二氧化硫脲溶液的方法，其特征在于：所述第三步中的催化反應時間為5～15min。
10.根據權利要求1-5任一所述的制備強還原性二氧化硫脲溶液的方法，其特征在于：所述第三步獲得的二氧化硫脲溶液在常溫弱堿性條件下的還原電位達到-800mV～-1000mV。
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