[發(fā)明專利]一種金屬化學(xué)機械拋光漿料及其應(yīng)用

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• 申請?zhí)枺?/td>: 201210528946.6
• 申請日: 2012-12-10
• 公開（公告）號: CN103866326A
• 公開（公告）日: 2014-06-18
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 荊建芬;張建;蔡鑫元
• 申請（專利權(quán)）人: 安集微電子（上海）有限公司
• 主分類號: C23F3/04
• 分類號: C23F3/04
• 代理公司: 上海翰鴻律師事務(wù)所 31246
• 代理人: 李佳銘

1.一種金屬化學(xué)機械拋光漿料，包括研磨顆粒、絡(luò)合劑、腐蝕抑制劑、氧化劑，其特征在于，還至少含有一種磷酸酯類表面活性劑。

2.如權(quán)利要求1所述的金屬化學(xué)機械拋光漿料，其特征在于，所述的磷酸酯類表面活性劑至少含有如下結(jié)構(gòu)式的一種或多種：

和/或其中：X=RO,RO-(CH₂CH₂O)_n,RCOO-(CH₂CH₂O)_n;R為C8~C22的烷基或烷基苯、甘油基（C₃H₅O₃-），n=2~30,M=H,K,NH₄，(CH₂CH₂O)_1~3NH_3~1和/或Na。

3.如權(quán)利要求1所述的金屬化學(xué)機械拋光漿料，其特征在于，所述的磷酸酯類表面活性劑至少含有如下結(jié)構(gòu)式的兩種或多種：

和/或其中：X=RO,RO-(CH₂CH₂O)_n,RCOO-(CH₂CH₂O)_n;R為C8~C22的烷基或烷基苯、甘油基（C₃H₅O₃-），n=2~30,M=H,K,NH₄，(CH₂CH₂O)_1~3NH_3~1和/或Na。

4.如權(quán)利要求1所述的金屬化學(xué)機械拋光漿料，其特征在于，所述的磷酸酯類表面活性劑的含量為重量百分比0.0005~1%。

5.如權(quán)利要求4所述的金屬化學(xué)機械拋光漿料，其特征在于，所述磷酸酯類表面活性劑的含量為重量百分比0.001~0.5%。

6.如權(quán)利要求1所述的金屬化學(xué)機械拋光漿料，其特征在于，所述的研磨顆粒為二氧化硅、氧化鋁、摻雜鋁或覆蓋鋁的二氧化硅、二氧化鈰、二氧化鈦、高分子研磨顆粒中的一種或多種。

7.如權(quán)利要求1所述的金屬化學(xué)機械拋光漿料，其特征在于，所述的研磨顆粒的粒徑為20～200nm。

8.如權(quán)利要求1所述的金屬化學(xué)機械拋光漿料，其特征在于，所述的研磨顆粒的重量百分比濃度為0.1～20％．

9.如權(quán)利要求1所述的金屬化學(xué)機械拋光漿料，其特征在于，所述的絡(luò)合劑為氨羧化合物及其鹽、有機羧酸及其鹽、有機膦酸及其鹽和有機胺中的一種或多種。

10.如權(quán)利要求9所述的金屬化學(xué)拋光漿液，其特征在于，所述的氨羧化合物選自甘氨酸、丙氨酸、纈氨酸、亮氨酸、脯氨酸、苯丙氨酸、酪氨酸、色氨酸、賴氨酸、精氨酸、組氨酸、絲氨酸、天冬氨酸、蘇氨酸、谷氨酸、天冬酰胺、谷氨酰胺、氨三乙酸、乙二胺四乙酸、環(huán)己烷四乙酸、乙二胺二琥珀酸、二乙烯三胺五乙酸和三乙烯四胺六乙酸中的一種或多種；所述的有機羧酸為醋酸、草酸、檸檬酸、酒石酸、丙二酸、丁二酸、蘋果酸、乳酸、沒食子酸和磺基水楊酸中的一種或多種；所述的有機膦酸為2-膦酸丁烷-1，2，4-三羧酸、氨基三甲叉膦酸、羥基乙叉二膦酸、乙二胺四甲叉膦酸、二乙烯三胺五甲叉膦酸、2-羥基膦酸基乙酸、乙二胺四甲叉膦酸和多氨基多醚基甲叉膦酸中的一種或多種；所述的有機胺為乙二胺、二乙烯三胺、五甲基二乙烯三胺、多乙烯多胺、三乙烯四胺、四乙烯五胺；所述的鹽為鉀鹽、鈉鹽和/或銨鹽。

11.如權(quán)利要求1所述的金屬化學(xué)機械拋光漿料，其特征在于，所述的絡(luò)合劑的含量為重量百分比0.05～10％。

12.如權(quán)利要求11所述的金屬化學(xué)機械拋光漿料，其特征在于，所述的絡(luò)合劑的含量較佳為重量百分比0.1～5％。

13.如權(quán)利要求1所述的金屬化學(xué)機械拋光漿料，其特征在于，所述的氧化劑為過氧化氫、過氧化脲、過氧甲酸、過氧乙酸、過硫酸鹽、過碳酸鹽、高碘酸、高氯酸、高硼酸、高錳酸鉀和硝酸鐵中的一種或多種。

14.如權(quán)利要求1所述的金屬化學(xué)機械拋光漿料，其特征在于，所述的氧化劑的含量為重量百分比0.05～10％。