[發明專利]記錄方法和記錄設備

無效

• 申請號: 201210526197.3
• 申請日: 2012-12-07
• 公開（公告）號: CN103165143A
• 公開（公告）日: 2013-06-19
• 發明（設計）人: 齋藤昭也
• 申請（專利權）人: 索尼公司;索尼信息技術股份有限公司
• 主分類號: G11B7/007
• 分類號: G11B7/007
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 朱勝;穆云麗

技術領域

本公開內容涉及一種優化形成在記錄介質上的標記（坑）的形狀并且獲得高質量再現信號的記錄方法和記錄設備。

背景技術

在僅用于再現的ROM型光盤的制造處理中，首先，制作具有坑列圖案的原版，從原版得到壓模，并且使用壓模制作大量光盤。作為形成在光盤上的凹凸圖案的坑以原版、壓模和光盤的順序來轉印，并且然后光盤的坑的形狀變成制作原版時（當原版制作時）形成的坑的形狀。

在日本未審查專利申請公布第2010-123230號中公開了關于使用無機光刻膠的原版上的曝光坑列的生成和顯影處理的技術。

發明內容

當再現光盤時，在激光照射在坑列上期間接收所反射的激光并且從所反射的信號獲得再現信號。因此，坑的形狀影響再現信號的質量。

期望形成如下坑（標記）：在諸如原版制作的記錄操作中可從該坑（標記）獲得較好質量的再現信號。

根據本公開內容的實施例，提供了一種記錄方法，包括：生成激光驅動脈沖，該激光驅動脈沖的數量取決于所形成的標記的長度，并且其中，至少在除帶頭脈沖和最后脈沖之外的中間脈沖中脈沖列的脈沖電平順序地減?。换诩す怛寗用}沖執行激光發射，并且使用利用激光照射的熱記錄對記錄介質執行標記形成。

根據本公開內容的另一實施例，提供了一種記錄設備，包括：激光驅動脈沖生成部，生成激光驅動脈沖，該激光驅動脈沖的數量取決于所形成的標記的長度，并且其中，至少在除帶頭脈沖和最后脈沖之外的中間脈沖中脈沖列的脈沖電平順序地減??；以及記錄頭部，基于激光驅動脈沖執行激光發射，并且使用利用激光照射的熱記錄對記錄介質執行標記形成。

如上所述，在本公開內容中，通過使用至少在中間脈沖中脈沖電平順序地減小的脈沖列作為激光驅動脈沖來執行熱記錄。在熱記錄的情況下，通過從激光照射位置到記錄介質上的周界的熱累積量來確定標記形狀。所形成的標記越長，在標記的末端側的熱累積量越大并且標記要在軌道的正交方向（如果是盤介質，則為盤的徑向方向）上擴展的傾向越大。

在作為寫入策略利用使用帶頭脈沖和最后脈沖之間的多個中間脈沖的脈沖串來記錄長標記的情況下，每個中間脈沖的電平順序地減小，從而減小激光功率。因此，抑制了標記的后一半中的熱累積量并且形成具有一致標記寬度的標記（坑）。

根據本公開內容，可抑制其中標記寬度由于熱累積的影響而順序地增加的減小。因此，優點在于可形成其標記寬度被調整的標記（坑），并且當執行再現時，可形成可從其獲得良好質量的再現信號的標記列或坑列。

附圖說明

圖1是本公開內容的實施例的原版制作裝置的框圖。

圖2A至2D是光盤的制造處理的說明圖。

圖3A至3D是光盤的制造處理的說明圖。

圖4是寫入策略的示例的說明圖。

圖5A和5B是對通過驅動脈沖串的激光而形成的標記（坑）的形狀和標記（坑）的長度的校正的說明圖。

圖6A和6B是根據坑的形狀的再現信號波形的說明圖。

圖7是實施例的寫入策略的說明圖。

圖8是實施例中的標記（坑）的形狀的說明圖。

圖9是實施例的策略確定處理的流程圖。

圖10是在實施例的策略確定處理中使用的候選策略的說明圖。

圖11是實施例的候選策略的最后脈沖的校正的說明圖。

圖12是實施例的候選策略的最后脈沖的校正的說明圖。

圖13A至13D是實施例的當曝光時的光刻膠層的擴展的說明圖。

圖14A和14B是實施例的和現有技術的坑的SEM照片。

具體實施方式

在下文中，按以下順序描述實施例。

1．原版制作裝置的配置

2．盤的制造處理

3．坑形狀的不穩定化的說明

4．實施例的寫入策略和橢圓坑的說明

5．策略確定處理

6．修改示例

1．原版制作裝置的配置

在實施例中，在光盤原版上形成曝光標記的原版制作裝置被例示為執行權利要求中描述的記錄方法的記錄設備。

另外，在盤的制造處理中使用以下描述的、原版的凹凸坑圖案被轉印到其上的圖案來制作光盤。因此，形成在光盤上的凹凸坑（浮雕坑）具有與形成在原版上的凹凸坑基本上相同的形狀。另外，在實施例中，執行使用基于無機的光刻膠材料的PTM（相變原版制作）方法的原版制作，并且在該情況下，對使用原版制作裝置在原版上曝光的部分進行顯影，從而變成凹凸坑。