[發明專利]一種高光效白光LED倒裝芯片有效
| 申請號: | 201210525411.3 | 申請日: | 2012-02-01 |
| 公開(公告)號: | CN103050611A | 公開(公告)日: | 2013-04-17 |
| 發明(設計)人: | 俞國宏 | 申請(專利權)人: | 俞國宏 |
| 主分類號: | H01L33/50 | 分類號: | H01L33/50;H01L33/54;H01L33/38 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 322000 浙江省*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 高光效 白光 led 倒裝 芯片 | ||
技術領域
本發明申請為申請日2012年02月1日,申請號為:201210022508.2,名稱為“一種高光效白光LED倒裝芯片”的發明專利申請的分案申請。本發明涉及一種LED芯片,尤其是涉及一種高光效白光LED倒裝芯片。
背景技術
使用藍寶石襯底其優點是化學穩定性好,不吸收可見光、價格適中、制造技術相對成熟,因此成為用于GaN生長最普遍的襯底。在LED的封裝過程中,都把藍寶石襯底面直接固定在散熱板上。在LED的工作過程中,其發光區是器件發熱的根源。由于藍寶石襯底本身是一種絕緣體材料,且導熱性能比GaN材料較差,所以對這種正裝的LED器件其工作電流都有一定的限制,以確保LED的發光效率和工作壽命。為改善器件的散熱性能,人們設計了一種LED芯片結構,即倒裝結構的LED芯片。
另外,傳統的藍寶石襯底的GaN芯片的結構,電極剛好位于芯片的出光面。由于p-GaN層有限的電導率,因此要求在?p-GaN層表面沉淀一層用于電流擴散的金屬層,這個電流擴散層由?Ni和?Au組成,會吸收部分光,從而降低出光效率。如果將芯片倒裝,那么電流擴散層?(金屬反射層)就成為光的反射層,這樣光可通過藍寶石襯底發射出去,從而提高出光效率。
自從提出芯片的倒裝設計之后,人們針對其可行性進行了大量的研究和探索。由于LED芯片設計的局限性,封裝良率一直很低,原因如下:第一、N型電極區域相對小,很難與PCB板的相應區域對位;第二、N型電極位置比P型電極位置高很多,很容易造成虛焊、脫焊情形;第三、為制作N型電極,往往要人為地去掉很大一部分有源區,這樣大大地減少了器件的發光面積,直接影響了LED發光效率。
再者,雖然LED的發光效率已經超過日光燈和白熾燈,但商業化LED發光效率還是低于鈉燈(150lm/W)。那么,哪些因素影響LED的發光效率呢?就白光LED來說,其封裝成品發光效率是由內量子效率,?電注入效率,?提取效率和封裝效率的乘積決定的。??????如圖34所示,利用MOCVD、VPE、MBE或LPE技術在襯底30上生長器件(如LED、LD等)結構,從上至下依次分別為襯底30、N型材料層31、發光區32、P型材料層33、P型電極34、P級焊錫層35、PCB板36以及散熱板40。其中N型材料層31與散熱板40之間還依次連接N型電極37、N級焊錫層38和PCB板39。
該傳統的LED倒裝芯片存在的技術缺陷如下:
1、在水平方向N型電極37所處位置與P型電極34相距較遠,N型電極37對其下方的PCB板39的位置設計有苛刻的要求,影響到封裝優良率。
2、N型電極37位置比P型電極34位置高很多,導致其與下方的PCB板39之間的間隙較大,在焊錫時很容易使得N級焊錫層38過長而造成虛焊或脫焊的發生。
3、為了使得N型電極37與其下方的PCB板39可以進行焊接,需要去掉很大一部分發光區,影響到LED芯片的發光效率。
4、電極區域不夠大,影響注入電流效率進而影響到LED芯片的發光效率。
5、P型電極與N型電極位在芯片兩側,造成電子流動路徑不一,如圖35,形成電阻不均勻,芯片發光區發光不均勻,影響到LED芯片的發光效率。
發明內容
本發明設計了一種高光效白光LED倒裝芯片,其解決了以下技術問題是:
(1)N型電極區和P型電極區相對小,很難與PCB板的相應區域對位,會影響到封裝效果和LED產品的優良率;
(2)N型電極位置比P型電極位置高很多,很容易造成虛焊、脫焊情形;
(3)為制作N型電極,往往要人為地去掉很大一部分有源區,這樣大大地減少了器件的發光面積,直接影響了LED發光效率;
(4)P型電極及N型電極區域不夠大,影響注入電流,直接影響了LED芯片發光效率;
(5)P型電極與N型電極位在芯片兩側,造成電子流動路徑不一,形成電阻不均勻,芯片發光區發光不均勻,影響到LED芯片的發光效率。
為了解決上述存在的技術問題,本發明采用了以下方案:?
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