[發(fā)明專利]一種非均勻折射率薄膜光學(xué)常數(shù)的測(cè)量方法

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201210520711.2
• 申請(qǐng)日: 2012-12-06
• 公開（公告）號(hào): CN102980748A
• 公開（公告）日: 2013-03-20
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 金春水;常艷賀;李春;鄧文淵;靳京城
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中國(guó)科學(xué)院長(zhǎng)春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所
• 主分類號(hào): G01M11/02
• 分類號(hào): G01M11/02
• 代理公司: 長(zhǎng)春菁華專利商標(biāo)代理事務(wù)所 22210
• 代理人: 張偉

1.一種非均勻折射率薄膜光學(xué)常數(shù)的測(cè)量方法，其特征在于，包括以下步驟：

步驟a，對(duì)薄膜進(jìn)行透過(guò)率和反射率光譜測(cè)量，得到光譜測(cè)量數(shù)據(jù)；

步驟b，對(duì)薄膜進(jìn)行變角度的橢圓偏振測(cè)量，得到橢偏參數(shù)；

步驟c，根據(jù)步驟a和b的測(cè)量結(jié)果，將光譜測(cè)量數(shù)據(jù)和橢偏參數(shù)擬合，配合相應(yīng)的色散關(guān)系，使用非均勻模型求解薄膜的光學(xué)常數(shù)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的測(cè)量方法，其特征在于，步驟c中，所述非均勻模型為Schroeder模型。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的測(cè)量方法，其特征在于，步驟b中，橢圓偏振測(cè)量波段選擇185nm-450nm。

4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的測(cè)量方法，其特征在于，步驟b中，橢圓偏振測(cè)量角度分別選擇65°、70°和75°。

5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的測(cè)量方法，其特征在于，步驟c之后還包括步驟：根據(jù)理論計(jì)算和實(shí)際情況，評(píng)價(jià)函數(shù)σ的值小于0.01認(rèn)定為理想結(jié)果，否則重新計(jì)算；σ定義為

σ=12N-MΣi=1N[(ψimod-ψiexpσψ,iexp)2+(Δimod-ΔiexpσΔ,iexp)2+(Timod-TiexpσT,iexp)2+(Rimod-RiexpσR,iexp)2]]]>

其中，N為橢偏儀和光度計(jì)同時(shí)測(cè)量的波長(zhǎng)數(shù)量，即獲得橢偏參數(shù)ψ、Δ和光譜測(cè)量數(shù)據(jù)T、R的總對(duì)數(shù)；M為所選取擬合參數(shù)的數(shù)目；ψ為偏振光反射前后分量間相對(duì)振幅變化，Δ為偏振光反射時(shí)分量間的位相變化；和，和分別為測(cè)量和根據(jù)模型計(jì)算的ψ和Δ值；和為ψ和Δ值的測(cè)量誤差；T表示薄膜的透射率，R為表示薄膜的反射率；和，和分別為測(cè)量和根據(jù)模型計(jì)算的T和R值；和為T和R值的測(cè)量誤差。