[發明專利]一種深紫外光學薄膜基底的處理方法無效
| 申請號： | 201210520610.5 | 申請日： | 2012-12-06 |
| 公開（公告）號： | CN102989715A | 公開（公告）日： | 2013-03-27 |
| 發明（設計）人： | 金春水;常艷賀;李春;鄧文淵;靳京城 | 申請（專利權）人： | 中國科學院長春光學精密機械與物理研究所 |
| 主分類號： | B08B3/12 | 分類號： | B08B3/12 |
| 代理公司： | 長春菁華專利商標代理事務所 22210 | 代理人： | 張偉 |
| 地址： | 130033 吉*** | 國省代碼： | 吉林;22 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 深紫 光學薄膜 基底 處理 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種深紫外光學薄膜基底的處理方法，該方法適用的處理裝置包括頻率不同的多個超聲波水槽和慢拉脫水水槽，其特征在于，包括以下步驟：
步驟i：在第一超聲波水槽中加入洗滌劑，將基底在該第一超聲波水槽中進行清洗；
步驟ii：將基底按照頻率由低到高，依次放入頻率不同的多個超聲波水槽內進行清洗；
步驟iii：在慢拉脫水水槽中對基底進行慢拉脫水；
步驟iv：對基底進行高純氮氣吹干；
步驟v：對基底進行紫外燈輻照處理。
2.根據權利要求1所述的處理方法，其特征在于，步驟i之前還包括步驟：將多個超聲波水槽和慢拉脫水水槽中的水加熱至50℃。
3.根據權利要求1或2所述的處理方法，其特征在于，頻率不同的多個超聲波水槽的頻率分別為：40kHz、68kHz、120kHz和175kHz。
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