[發(fā)明專利]一種ArF激光光學(xué)薄膜角度散射測(cè)量裝置

無效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201210520608.8
• 申請(qǐng)日: 2012-12-06
• 公開（公告）號(hào): CN103018205A
• 公開（公告）日: 2013-04-03
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 金春水;常艷賀;李春;鄧文淵;靳京城
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中國科學(xué)院長(zhǎng)春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所
• 主分類號(hào): G01N21/47
• 分類號(hào): G01N21/47;G01B11/30
• 代理公司: 長(zhǎng)春菁華專利商標(biāo)代理事務(wù)所 22210
• 代理人: 張偉

1.一種ArF激光光學(xué)薄膜角度散射測(cè)量裝置，其特征在于，?包括：用于產(chǎn)生測(cè)量激光的ArF準(zhǔn)分子激光器；

在測(cè)量激光的光路上依次設(shè)有ArF準(zhǔn)分子激光擴(kuò)束準(zhǔn)直裝置，可變光闌，193nm偏振光起偏器和分束器；

測(cè)量激光經(jīng)過分束器后分為兩條光路，其中一條光路上設(shè)有193nm參比光偏振探測(cè)裝置；另外一條光路上設(shè)有旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)；

測(cè)量激光照射在所述旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)上的樣品后，透射光路上設(shè)有193nm透射光偏振探測(cè)裝置，散射光路上設(shè)有193nm散射光偏振探測(cè)裝置。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的測(cè)量裝置，其特征在于，所述ArF準(zhǔn)分子激光擴(kuò)束準(zhǔn)直裝置，可變光闌，193nm偏振光起偏器，分束器，193nm參比光偏振探測(cè)裝置，193nm透射光偏振探測(cè)裝置，193nm散射光偏振探測(cè)裝置，以及旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)均分別處于真空腔體內(nèi)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的測(cè)量裝置，其特征在于，所述真空腔體用熔石英或CaF₂進(jìn)行密封。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的測(cè)量裝置，其特征在于，所述旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)可以繞其圓心，在水平方向0-360度范圍內(nèi)連續(xù)轉(zhuǎn)動(dòng)。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的測(cè)量裝置，其特征在于，所述193nm散射光探測(cè)裝置安裝在一個(gè)旋轉(zhuǎn)臂上，可以在測(cè)量激光入射平面內(nèi)0-180度范圍內(nèi)轉(zhuǎn)動(dòng)。

6.根據(jù)權(quán)利要求1-5任一項(xiàng)所述的測(cè)量裝置，其特征在于，所述193nm參比光偏振探測(cè)裝置，所述193nm透射光偏振探測(cè)裝置以及所述193nm散射光探測(cè)裝置分別為一個(gè)光電倍增管。