[發(fā)明專利]一種電積槽

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210515045.3
• 申請日: 2012-12-05
• 公開（公告）號: CN103849901A
• 公開（公告）日: 2014-06-11
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 顧華
• 申請（專利權(quán)）人: 泰州華平不銹鋼制品有限公司
• 主分類號: C25C7/00
• 分類號: C25C7/00;C25C7/06
• 代理公司: 南京正聯(lián)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 32243
• 代理人: 沈志海

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及到一種電積槽，尤其涉及到一種可處理電解產(chǎn)生酸霧的電積槽。?

背景技術(shù)

目前，國內(nèi)外采用的濕法冶金電積裝置在電積過程中極易產(chǎn)生酸霧，據(jù)監(jiān)測：電積槽面空氣中硫酸濃度平均為32.6mg/m³，二氧化硫濃度平均為2.53?mg/m³，既造成廠房內(nèi)低空污染、不利于工人身心健康。?

為解決上述問題，有較多的廠家采用機械排風(fēng)法、覆蓋處理法，雖然可以減少酸霧但處理不夠完全。?

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是提供一種可有效地消除酸霧的電積槽。?

為了解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明提供了一種電積槽，包括極板和電解池，極板包括陰極板、陽極板，陰極板通過鈦板做種板，電解池設(shè)置有貧液出口，所述電積槽設(shè)有酸霧處理池，所述電解池上設(shè)置有氣體收集裝置。?

所述酸霧處理池上設(shè)置有酸霧處理劑入口，酸霧處理劑為強堿溶液。?

所述氣體收集裝置上設(shè)有導(dǎo)氣管，所述導(dǎo)氣管內(nèi)設(shè)有防回流裝置。?

采用上述結(jié)構(gòu)，本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比，其有益效果在于：?

所述電積槽還包括酸霧處理池，電解池上設(shè)置有氣體收集裝置，氣體收集裝置將產(chǎn)生的酸霧通入酸霧處理池，可以消除酸霧。

所述酸霧處理池上設(shè)置有酸霧處理劑入口，酸霧處理劑為強堿溶液，酸霧處理劑與酸霧反應(yīng)產(chǎn)生硫酸酸鈉和水，亞硫酸鈉可出售或自用。?

?所述氣體收集裝置上設(shè)有導(dǎo)氣管，所述導(dǎo)氣管設(shè)有防回流裝置，可防止酸霧處理池中的溶液倒流至電解槽。?

附圖說明

圖1為本發(fā)明的新型電積槽的主視圖。?

圖2為本發(fā)明的新型電積槽的俯視圖。?

圖中：1-極板，2-電解池，3-陰極板，4-陽極板，5-貧液出口，6-酸霧處理池，7-氣體收集裝置，8-酸霧處理劑入口，9-導(dǎo)氣管，10-防回流裝置。?

具體實施方式

下面結(jié)合附圖對本發(fā)明做進一步詳細的說明。?

如圖1和圖2所示，一種電積槽，包括極板1和電解池2，極板包括陰極板3、陽極板4，陰極板3通過鈦板做種板，電解池2上設(shè)置有貧液出口5，電積槽還包括酸霧處理池6，酸霧處理池6設(shè)置有酸霧處理劑入口8，酸霧處理劑為強堿溶液。電解池上上設(shè)置有氣體收集裝置7。氣體收集裝置7設(shè)有導(dǎo)氣管9，導(dǎo)氣管9內(nèi)設(shè)有防回流裝置10。?

首先，將酸霧處理劑氫氧化鈉通過酸霧處理劑入口8進入酸霧處理池6。電積槽電解銅時，電解池2產(chǎn)生二氧化硫，氣體收集裝置7通過導(dǎo)氣管9將二氧化硫通入酸霧處理池6，二氧化硫與酸霧處理劑氫氧化鈉反應(yīng)，產(chǎn)生亞硫酸鈉和水。電解池2內(nèi)，陽極板4發(fā)生氧化反應(yīng)，同時陰極板3發(fā)生還原反應(yīng)，析出純銅,最后將電解后的電解液通過貧液口放出處理。??