[發(fā)明專利]一種IGBT結(jié)殼熱阻的測量方法無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201210514961.5 | 申請(qǐng)日: | 2012-12-04 |
| 公開(公告)號(hào): | CN103852483A | 公開(公告)日: | 2014-06-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 董少華;朱陽軍;陸江;王任卿;佘超群 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國科學(xué)院微電子研究所 |
| 主分類號(hào): | G01N25/20 | 分類號(hào): | G01N25/20 |
| 代理公司: | 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227 | 代理人: | 王寶筠 |
| 地址: | 100029 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 igbt 結(jié)殼熱阻 測量方法 | ||
1.一種IGBT結(jié)殼熱阻的測量方法,其特征在于,包括:
提供第一待測IGBT,所述第一待測IGBT包括:封裝芯片和封裝外殼;
提供第二待測IGBT,所述第二待測IGBT包括:封裝芯片、封裝外殼以及位于所述封裝芯片與封裝外殼之間的導(dǎo)熱層,其中,所述導(dǎo)熱層的導(dǎo)熱系數(shù)大于空氣的導(dǎo)熱系數(shù);
在相同的測量條件下,分別對(duì)所述第一待測IGBT和所述第二待測IGBT施加預(yù)設(shè)的加熱功率,測得所述第一待測IGBT和第二待測IGBT在該加熱功率下的結(jié)溫曲線;
根據(jù)所述第一待測IGBT和第二待測IGBT在該加熱功率下的結(jié)溫曲線,獲得所述第一待測IGBT和第二待測IGBT瞬態(tài)熱阻抗曲線或結(jié)構(gòu)函數(shù)曲線;
根據(jù)所述第一待測IGBT和第二待測IGBT瞬態(tài)熱阻抗曲線或結(jié)構(gòu)函數(shù)曲線,獲得所述第一待測IGBT的結(jié)殼熱阻。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的測量方法,其特征在于,所述結(jié)溫曲線為升溫曲線或降溫曲線。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的測量方法,其特征在于,所述瞬態(tài)熱阻抗曲線與所述結(jié)溫曲線之間的關(guān)系式為:
其中,ΔP表示預(yù)設(shè)的加熱功率;TJ0表示初始結(jié)溫;TJ(t)表示不同時(shí)刻結(jié)溫;ZθJC(t)表示相應(yīng)的不同時(shí)刻的阻抗值。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的測量方法,其特征在于,所述溫度曲線為升溫曲線時(shí),TJ0表示未施加預(yù)設(shè)的加熱功率前的結(jié)溫。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的測量方法,其特征在于,所述溫度曲線為降溫曲線時(shí),TJ0表示撤出所述預(yù)設(shè)的加熱功率時(shí)刻的結(jié)溫。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的測量方法,其特征在于,在預(yù)設(shè)時(shí)間外,根據(jù)
其中,TJ(t)表示預(yù)設(shè)時(shí)間外不同時(shí)刻的結(jié)溫;T′J0表示撤出所述預(yù)設(shè)的加熱功率預(yù)設(shè)時(shí)間時(shí)的結(jié)溫。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的測量方法,其特征在于,所述預(yù)設(shè)時(shí)間為10μs-30μs。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于中國科學(xué)院微電子研究所,未經(jīng)中國科學(xué)院微電子研究所許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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