[發明專利]一種納米改性高自潔太陽熱反射涂料及其制備方法

無效

• 申請號: 201210514952.6
• 申請日: 2012-12-05
• 公開（公告）號: CN103013243A
• 公開（公告）日: 2013-04-03
• 發明（設計）人: 胡宏;倪正發
• 申請（專利權）人: 北京京能恒基新材料有限公司
• 主分類號: C09D127/12
• 分類號: C09D127/12;C09D183/04;C09D5/16;C09D5/33
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種納米改性高自潔太陽熱反射涂料，其特征在于：按質量百分比計算，該納米改性高自潔太陽熱反射涂料由氟碳樹脂乳液40-50%、潤濕分散劑0.5-1%、鈦白粉15-25%、納米二氧化硅0.2-1%、填料0-25%、去離子水3-10、防霉殺菌劑0.5-1%、成膜助劑0.5-2%、PH調節劑0.1-0.5%、消泡劑0.3-0.9%、流平劑0.2-0.5%、有機硅樹脂1-4.5%和助劑0.1-0.5%組成。

2.根據權利要求1所述的納米改性高自潔太陽熱反射涂料，其特征在于：所述的鈦白粉為金紅石型鈦白粉。

3.根據權利要求1所述的納米改性高自潔太陽熱反射涂料，其特征在于：所述的填料為硫酸鋇。

4.根據權利要求1所述的納米改性高自潔太陽熱反射涂料，其特征在于：所述的助劑為增稠劑。

5.一種納米改性高自潔太陽熱反射涂料的制備方法，其特征在于：先向攪拌罐中加入去離子水，然后加入潤濕分散劑進行攪拌，在400-600r/min的轉速下依次加入納米二氧化硅、鈦白粉、填料，攪拌10-15分鐘后，再加入消泡劑、助劑、防霉殺菌劑，在800-1200r/min的轉速下高速分散20-30分鐘，然后用砂磨機研磨細度到10微米以下，即成色漿，再加入氟碳樹脂乳液、成膜助劑、流平劑、有機硅樹脂和PH調節劑，攪拌均勻，過濾即得。