[發明專利]一種半透半反式陣列基板、液晶顯示器及制造方法

有效

• 申請號: 201210510467.1
• 申請日: 2012-12-03
• 公開（公告）號: CN103852933B
• 公開（公告）日: 2018-04-13
• 發明（設計）人: 謝暢
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: G02F1/1335
• 分類號: G02F1/1335;G02F1/1343;G02F1/1333;G02F1/13363
• 代理公司: 北京派特恩知識產權代理有限公司11270
• 代理人: 蔣雅潔,張穎玲

技術領域

本發明涉及液晶顯示技術，尤其涉及一種半透半反式陣列基板、液晶顯示器及半透半反式陣列基板的制造方法。

背景技術

根據采用光源類型的不同，液晶顯示器可分為透射式、反射式和透反式幾種類型。其中，透反式的液晶顯示器由于兼具透射式和反射式液晶顯示器的優點，因此，既可以在室內使用，也可以在室外使用。從而，它被廣泛用于便攜式移動電子產品的顯示設備。

然而，現有透反式的液晶顯示器的缺點是：由于透反式的液晶顯示器由透射區和反射區組成，而透射區是外界光源只通過一次，反射區卻是需要通過二次，二者實際光通過路徑和光程不同，那么就會導致在透射區和反射區的相位延遲量有差異，出現不匹配的問題，而不匹配的問題會影響透反式的液晶顯示器的顯示效果，比如，原本希望透射區和反射區同時出現暗態或亮態的顯示效果，但是目前在透射區和反射區的相位延遲量并不匹配，而不匹配會導致透射區和反射區顯示效果不同，出現有的暗態、有的亮態、不均勻的顯示效果，最終出現對比度下降的不良效果。

目前的解決辦法僅僅是把透射區設置為反射區的2倍，即透射區的液晶盒厚是反射區液晶盒厚的2倍，以抵消透射區和反射區的相位延遲量差異，但是這樣的方案，又會導致工藝制作上的復雜度。可見：目前迫切需要一種既能改善透反式的液晶顯示器的顯示效果，又能降低工藝制作復雜度的方案。

發明內容

有鑒于此，本申請的主要目的在于提供一種半透半反式陣列基板、液晶顯示器及半透半反式陣列基板的制造方法，既能改善透反式的液晶顯示器的顯示效果，又能降低工藝制作的復雜度。

為達到上述目的，本發明實施方式所提供的技術方案是這樣實現的：

一種半透半反式陣列基板，該陣列基板的像素單元包括透射區和反射區，所述像素單元內的像素電極覆蓋所述透射區的全部，且部分地覆蓋所述反射區。

其中，所述反射區內的像素電極覆蓋該反射區的四周區域。

其中，所述陣列基板在所述透射區和所述反射區的厚度設置為單盒厚模式厚度。

一種半透半反式液晶顯示裝置，包括如上述技術方案任一項所述的陣列基板。

其中，還包括：彩膜基板及其上方的彩膜基板側的偏光片、位于彩膜基板下方的公共電極、公共電極下方的彩膜基板液晶取向層、所述陣列基板側的偏光片、陣列基板液晶取向層，以及所述彩膜基板和所述陣列基板之間的液晶層。

其中，所述液晶層為負性液晶層。

其中，所述液晶層的電場施加方式為豎直電場模式。

其中，所述像素電極是設置為：部分地覆蓋所述反射區，使得在施加豎直電場時所述反射區中液晶層的水平相位延遲小于所述透射區中液晶層的水平相位延遲。

其中，所述像素電極是設置為：部分地覆蓋所述反射區，使得在施加豎直電場時所述反射區中液晶層的水平相位延遲量為所述透射區中液晶層的水平相位延遲量的一半。

一種半透半反式陣列基板的制造方法，該方法包括：

在襯底基板上形成薄膜晶體管、柵線、數據線；

在每個像素單元的透射區的全部區域和反射區的部分區域上形成像素電極。

其中，所述制造方法還包括：在所述反射區上形成反射層。

其中，所述在每個像素單元的透射區的全部區域和反射區的部分區域上形成像素電極，包括：在所述透射區的全部區域和所述反射區的四周區域形成像素電極。

上述的半透半反式陣列基板，該陣列基板的像素單元包括透射區和反射區，所述像素單元內的像素電極覆蓋所述透射區的全部，且部分地覆蓋所述反射區。

由于上述技術方案中設置的透射區和反射區的液晶盒厚相同，區別于現有技術把透射區設置為反射區的2倍液晶盒厚，從而采用上述技術方案，工藝復雜度降低；由于像素電極位于反射區時是部分斷開的，因此，這種像素電極的結構在透射區和反射區是不相同的，從而可以平衡透射區和反射區之間的相位延遲，使得在透射區和反射區的相位延遲量達到匹配，從而采用本技術方案，也能改善透反式的液晶顯示器的顯示效果。

附圖說明

圖1為本發明實施例所提供的半透半反液晶顯示器的不加電壓時的液晶顯示結構圖；

圖2為本發明實施例所提供的半透半反液晶顯示器加電壓時的一種液晶顯示結構圖；

圖3為本發明實施例所提供的半透半反液晶顯示器加電壓時的的另一種液晶顯示結構圖；

圖4為本發明實施例所提供的像素電極一種實現的俯視圖；

圖5為本發明實施例所提供的像素電極另一種實現的俯視圖；