[發明專利]電場寫入電阻讀出固態存儲元器件、存儲器及其讀寫方法有效
| 申請號: | 201210510232.2 | 申請日: | 2012-12-03 |
| 公開(公告)號: | CN103065679A | 公開(公告)日: | 2013-04-24 |
| 發明(設計)人: | 高琛;楊遠俊 | 申請(專利權)人: | 中國科學技術大學 |
| 主分類號: | G11C16/02 | 分類號: | G11C16/02;G11C11/22;H01L45/00 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人: | 宋焰琴 |
| 地址: | 230026 安*** | 國省代碼: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 電場 寫入 電阻 讀出 固態 存儲 元器件 存儲器 及其 讀寫 方法 | ||
1.一種存儲元器件,其特征在于,包括相互緊鄰的鐵電性壓電層(4)和電阻層(2),其中
所述鐵電性壓電層(4)在外加電場作用下能產生應變,且具有多個剩余應變態,每個所述剩余應變態分別對應一個信息位;
所述電阻層(2)的電阻態隨著所述鐵電性壓電層(4)的應變而變化,從而具有對應于所述鐵電性壓電層(4)多個所述剩余應變態的多個電阻態,通過測量所述多個電阻態可讀取所述信息位。
2.如權利要求1所述的存儲元器件,其特征在于,所述鐵電性壓電層(4)由鈮鎂酸鉛-鈦酸鉛、鋯鈦酸鉛、鈦酸鉛、鈦酸鋇以及鈦酸鉍鈉形成的鐵電陶瓷、固溶體、單晶中的任何一種構成。
3.如權利要求2所述的存儲元器件,其特征在于,所述鐵電性壓電層(4)的厚度為幾微米至幾百微米的鈮鎂酸鉛-鈦酸鉛晶體。
4.如權利要求1所述的存儲元器件,其特征在于,所述電阻層(2)由其電子結構對應變敏感的材料構成。
5.如權利要求4所述的存儲元器件,其特征在于,所述電阻層(2)為氧化物、具有壓阻效應的Pt、Pt/Ir合金、Pt/W合金、Ni、Ni/Fe合金、Ni/Cu合金、Ni/Mn合金、Ni/Cr合金或具有壓阻效應的半導體薄膜。
6.如權利要求5所述的存儲元器件,其特征在于,所述電阻層(2)為錳氧化物(R1-xAx)MnO3,其中R是稀土元素,A堿土金屬,0<x<1。
7.如權利要求6所述的存儲元器件,其特征在于,所述電阻層(2)為幾納米到幾百納米厚的La2/3Sr1/3MnO3薄膜。
8.如權利要求1所述的存儲元器件,其特征在于,該存儲元器件還包括底電極層(3)和頂電極層(12),并且
所述底電極層(3)、鐵電性壓電層(4)、電阻層(2)和頂電極層(12)依次疊置,
所述底電極層(3)和頂電極層(12)用于施加所述外加電場。
9.如權利要求8所述的存儲元器件,其特征在于,所述底電極層(3)和頂電極層(12)由非磁性的導體材料構成。
10.如權利要求9所述的存儲元器件,其特征在于,所述頂電極層(12)在平行所述疊層的平面上被圖案化,以使該頂電極層(12)分成多個電極區。
11.如權利要求10所述的存儲元器件,其特征在于,所述電阻層(2)的上方非電極區,即是未被頂電極層(12)遮蓋的部分,在該未遮蓋的部分設置保護層(6),所述保護層(6)用于保護所述電阻層(2)。
12.如權利要求8所述的存儲元器件,其特征在于,在所述底電極層(3)的一側還包括一個基片層(11),其用于對所述存儲元器件進行力學支撐。
13.一種存儲器,其特征在于,包括如權利要求1至13中任一項所述的存儲元器件。
14.如權利要求13所述的存儲器,其特征在于,包括由多個如權利要求1至13中任一項所述的存儲元器件組成的矩形陣列、多組信息讀寫電路、和用于選擇性寫入和讀出某一固態存儲元器件功能的多個晶體管。
15.一種信息寫入方法,用于將信息寫入如權利要求1至12所述的任一項所述的存儲元器件,其特征在于,包括如下步驟:
使大小為所述鐵電性壓電層(4)的材料的飽和極化電場的寫入電場施加在所述鐵電性壓電層(4)上,接著將寫入電場變化至0,將此時所述鐵電性壓電層(4)的剩余應變態作為信息值“0”;
將所述寫入電場變化為所述鐵電性壓電層(4)的矯頑場的0.9~0.98倍,再將該寫入電場變化為0,將此時的剩余應變態稱作為信息值“1”,所述矯頑場與所述飽和極化電場的正負符號不同。
16.一種信息寫入方法,用于將信息寫入如權利要求1至12所述的任一項所述的存儲元器件,其特征在于,還包括如下步驟:
使大小為所述鐵電性壓電層(4)的材料的正飽和極化電場的寫入電場施加在所述鐵電性壓電層(4)上,接著將寫入電場變化至0,將此時所述鐵電性壓電層(4)的剩余應變態作為信息值“0”;
將所述寫入電場變化為所述鐵電性壓電層(4)的負矯頑場的0.9~0.98倍,再將該寫入電場變化為0,將此時所述鐵電性壓電層(4)的剩余應變態成作為信息值“1”;
使大小為所述鐵電性壓電層(4)的材料的負飽和極化電場的寫入電場施加在所述鐵電性壓電層(4)上,接著將寫入電場變化至0,將此時所述鐵電性壓電層(4)的剩余應變態也作為信息值“0”;
將所述寫入電場變化為所述鐵電性壓電層(4)的正矯頑場的0.9~0.98倍,再將該寫入電場變化為0,將此時所述鐵電性壓電層(4)的剩余應變態成作為信息值“2”。
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