[發(fā)明專利]用于含高密度粒子的流體控制裝置

無效

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• 申請日: 2012-12-03
• 公開（公告）號: CN102979459A
• 公開（公告）日: 2013-03-20
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 朱小寶;王眉山;徐依吉;陳立;張帆;萬夫磊;石超;楊洋洋;吳琪
• 申請（專利權(quán)）人: 中國石油大學(xué)（華東）
• 主分類號: E21B7/18
• 分類號: E21B7/18;E21B44/00
• 代理公司: 青島發(fā)思特專利商標(biāo)代理有限公司 37212
• 代理人: 耿霞

1.一種用于含高密度粒子的流體控制裝置，其特征在于，鉆頭的上部連接流體閥結(jié)構(gòu)，流體閥結(jié)構(gòu)上部設(shè)置鉆桿內(nèi)粒子疏導(dǎo)結(jié)構(gòu)，鉆桿外包覆設(shè)置環(huán)空內(nèi)粒子疏導(dǎo)結(jié)構(gòu)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于含高密度粒子的流體控制裝置，其特征在于，所述的流體閥結(jié)構(gòu)包括上閥座、下閥座，下閥座內(nèi)部設(shè)置閥芯管，外部連接下套筒，下套筒上連接上閥座，上閥座上安裝有上接頭，上接頭下端連接浮動接頭，浮動接頭的上部設(shè)置可轉(zhuǎn)動的閥芯，閥芯與閥芯管配合設(shè)置，閥芯管與其上部的內(nèi)腔體連通。

3.據(jù)權(quán)利要求2述的用于含高密度粒子的流體控制裝置，其特征在于，所述的上接頭與上閥座之間滑動設(shè)置，并在它們之間的配合面處設(shè)置密封圈。

4.根據(jù)權(quán)利要求2述的用于含高密度粒子的流體控制裝置，其特征在于，所述的浮動接頭上部固定閥芯連接塊，閥芯通過轉(zhuǎn)軸固定在閥芯連接塊上。

5.根據(jù)權(quán)利要求2述的用于石油鉆井井下流體控制的裝置，其特征在于，所述的閥芯下端為凸球面，閥芯管的上端面為凹球面。

6.根據(jù)權(quán)利要求2述的用于石油鉆井井下流體控制的裝置，其特征在于，所述的閥芯管通過開在其管體上的流道槽與其上部的內(nèi)腔體連通。

7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的用于含高密度粒子的流體控制裝置，其特征在于，所述的上閥座與上接頭的連接處設(shè)置環(huán)空內(nèi)粒子疏導(dǎo)結(jié)構(gòu)，環(huán)孔內(nèi)粒子疏導(dǎo)結(jié)構(gòu)為環(huán)空橡膠堵。

8.根據(jù)權(quán)利要求1的用于石油鉆井井下流體控制的裝置，其特征在于，所述的鉆桿內(nèi)粒子疏導(dǎo)結(jié)構(gòu)包括中間管、滲漏管、螺旋葉片和主套筒，中間管為中空管其末端與流體閥結(jié)構(gòu)連接，中間管外包覆滲漏管，滲漏管與主套筒之間的空隙中設(shè)置螺旋葉片，主套筒與流體閥結(jié)構(gòu)連接。

9.根據(jù)權(quán)利要求8用于石油鉆井井下流體控制的裝置，其特征在于，所述的滲漏管與主套筒之間設(shè)置的螺旋葉片組成第一流道；滲漏管與中間管之間的環(huán)形空間為第二流道，并在滲漏管上部和下部均開設(shè)螺旋孔，滲漏管下部開設(shè)的螺旋孔與流體閥結(jié)構(gòu)之間的環(huán)形空間為第四流道；中間管的中間中空位置為第三流道；主套筒外也開有螺旋流道。

10.根據(jù)權(quán)利要求9用于石油鉆井井下流體控制的裝置，其特征在于，所述的第一流道、第二流道、第三流道與第四流道之間分別通過a孔、b孔和c孔連通。