[發明專利]一種高純硅襯底拋光液無效
| 申請號： | 201210508326.6 | 申請日： | 2012-12-03 |
| 公開（公告）號： | CN103849319A | 公開（公告）日： | 2014-06-11 |
| 發明（設計）人： | 顧小玲 | 申請（專利權）人： | 江蘇天恒納米科技有限公司 |
| 主分類號： | C09G1/02 | 分類號： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 226000 江蘇省南*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 高純 襯底 拋光 | ||
【權利要求書】：
1.一種高純硅襯底拋光液，其特征在于：按重量百分比包括下述組成：二氧化硅溶膠50-80%，有機堿1-10wt%，pH調節劑0.1-3wt%，螯合劑0.05-0.5wt%，分散劑0.01-1%，活性劑0.001-0.1wt%，其余為水。
2.根據權利要求1所述的一種高純硅襯底拋光液，其特征在于，所述有機堿為四甲基氫氧化氨、異丙醇胺、羥乙基乙二胺、二乙烯三胺、三乙烯四胺、四乙烯五胺、乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、哌嗪中的兩種或兩種以上。
3.根據權利要求1所述的一種高純硅襯底拋光液，其特征在于，所述二氧化硅溶膠的粒徑為50-100nm。
4.根據權利要求1所述的一種高純硅襯底拋光液，其特征在于，所述pH調節劑的pH值為11-12。
5.根據權利要求1所述的一種高純硅襯底拋光液，其特征在于，所述螯合劑為甘氨酸、氨三乙酸三鈉、EDTA中的一種。
6.根據權利要求1所述的一種高純硅襯底拋光液，其特征在于，所述分散劑為AMP-95、三聚磷酸鈉、焦磷酸鈉、甲基戊醇、聚丙烯酰胺中的一種。
7.根據權利要求1所述的一種高純硅襯底拋光液，其特征在于，所述活性劑為非離子表面活性劑壬基酚聚氧乙烯醚TX-10。
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