[發明專利]提高遮障面與背景空間特征相似度的方法無效
| 申請號： | 201210502721.3 | 申請日： | 2012-11-30 |
| 公開（公告）號： | CN103093423A | 公開（公告）日： | 2013-05-08 |
| 發明（設計）人： | 蘇榮華;陳玉華;王吉遠;高洪生;林偉;余松林;王吉軍;黃艷萍;劉峰 | 申請（專利權）人： | 中國人民解放軍61517部隊 |
| 主分類號： | G06T5/00 | 分類號： | G06T5/00;G06N3/02 |
| 代理公司： | 北京中建聯合知識產權代理事務所 11004 | 代理人： | 朱麗巖;劉湘舟 |
| 地址： | 100850*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 提高 遮障面 背景 空間 特征 相似 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種提高遮障面與背景空間特征相似度的方法，其特征在于，包括以下步驟：
1）獲取目標的背景樣本點以及所述背景樣本點的坐標及對應的高程數據；
2）以所述背景樣本點的坐標作為廣義回歸神經網絡的輸入矢量，以對應的高程數據作為廣義回歸神經網絡輸出的目標矢量，對所述廣義回歸神經網絡進行訓練；
3）利用訓練完成的廣義回歸神經網絡，以偽裝遮障面的特征點的坐標作為輸入矢量，計算出偽裝遮障面的特征點的高程數據；
4）分析偽裝遮障面的空間特征參數，得出偽裝遮障面與背景的空間特征相似度，并根據所述空間特征相似度采用強制評分法得出偽裝遮障面與背景的空間特征綜合相似度；
5）當所述空間特征綜合相似度符合要求時，根據所述偽裝遮障面的特征點的高程數據生成偽裝遮障面，否則返回步驟2），重復以上步驟。
2.根據權利要求1所述的提高遮障面與背景空間特征相似度的方法，其特征在于，所述空間特征參數包括平均高度、方差、粗糙度、起伏度以及陰影函數。
3.根據權利要求1或2所述的提高遮障面與背景空間特征相似度的方法，其特征在于，利用激光測距儀、經緯儀或已測得的等高線圖，結合偵察器材的分辨率來獲取所述目標的背景樣本點以及所述背景樣本點的坐標及對應的高程數據。
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