[發(fā)明專利]一種液晶顯示裝置及其制造方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210502007.4 | 申請日： | 2012-11-29 |
| 公開（公告）號： | CN102981310A | 公開（公告）日： | 2013-03-20 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 樸求鉉 | 申請（專利權(quán)）人： | 京東方科技集團股份有限公司;合肥京東方光電科技有限公司 |
| 主分類號： | G02F1/13363 | 分類號： | G02F1/13363;G02F1/1333 |
| 代理公司： | 北京中博世達專利商標代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100015 *** | 國省代碼： | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 液晶 顯示裝置 及其 制造 方法 | ||
1.一種液晶顯示裝置，包括：液晶面板以及位于所述液晶面板兩側(cè)的第一光學補償結(jié)構(gòu)和第二光學補償結(jié)構(gòu)；所述第一光學補償結(jié)構(gòu)包括第一補償膜層、第二補償膜層以及位于所述第一補償膜層和所述第二補償膜層之間的第一偏光膜層，所述第二補償膜層位于所述第一偏光膜層與所述液晶面板之間，其特征在于，所述第二光學補償結(jié)構(gòu)包括：
第二偏光膜層、第三補償膜層和雙軸膜層，所述第二偏光膜層位于所述第三補償膜層和所述雙軸膜層之間；
所述雙軸膜層位于所述第二偏光膜層和所述液晶面板之間。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶顯示裝置，其特征在于，
所述雙軸膜層的面內(nèi)方向相位差Re在200nm至300nm之間；
所述雙軸膜層的厚度方向相位差Rth在100nm至150nm之間。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的液晶顯示裝置，其特征在于，所述雙軸膜層的面內(nèi)方向相位差Re為274nm，所述雙軸膜層的厚度方向相位差Rth為138nm。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的液晶顯示裝置，其特征在于，
所述第二補償膜層的面內(nèi)方向相位差Re’在0nm至4nm之間；
所述第二補償膜層的厚度方向相位差Rth’在0nm至10nm之間。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的液晶顯示裝置，其特征在于，所述第二補償膜層的面內(nèi)方向相位差Re’與所述第二補償膜層的厚度方向相位差Rth’均為0nm。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至5任一所述的液晶顯示裝置，其特征在于，所述偏光膜層為聚乙烯醇PVA薄膜；所述補償膜層為三醋酸纖維素TAC薄膜。
7.一種液晶顯示裝置制造方法，其特征在于，包括：
在相對設(shè)置的第一補償膜層和第二補償膜層之間形成第一偏光膜層，得到第一光學補償結(jié)構(gòu)；
在相對設(shè)置的第三補償膜層和雙軸膜層之間形成第二偏光膜層，得到第二光學補償結(jié)構(gòu)；
將所述第一光學補償結(jié)構(gòu)和所述第二光學補償結(jié)構(gòu)分別設(shè)置于液晶面板的兩側(cè)，所述液晶面板位于所述第二補償膜層和所述雙軸膜層之間。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其特征在于，所述雙軸膜層的面內(nèi)方向相位差Re在200nm至300nm之間；
所述雙軸膜層的厚度方向相位差Rth在100nm至150nm之間。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，其特征在于，所述雙軸膜層的面內(nèi)方向相位差Re為274nm，所述雙軸膜層的厚度方向相位差Rth為138nm。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，其特征在于，
所述第二補償膜層的面內(nèi)方向相位差Re’在0nm至4nm之間；
所述第二補償膜層的厚度方向相位差Rth’在0nm至10nm之間。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法，其特征在于，所述第二補償膜層的面內(nèi)方向相位差Re’與所述第二補償膜層的厚度方向相位差Rth’均為0nm。
12.根據(jù)權(quán)利要求7至11任一所述的方法，其特征在于，所述偏光膜層為聚乙烯醇PVA薄膜；所述補償膜層為三醋酸纖維素TAC薄膜。
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G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置，例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào)，上述器件或裝置的光學操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學性質(zhì)來修改的；用于上述操作的技術(shù)或工藝；變頻；非線性光學；光學
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置，例如，轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制；非線性光學
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制，即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導結(jié)構(gòu)中的
