[發明專利]一種微納米散斑制作方法無效
| 申請號： | 201210501039.2 | 申請日： | 2012-11-29 |
| 公開（公告）號： | CN102981360A | 公開（公告）日： | 2013-03-20 |
| 發明（設計）人： | 謝惠民;吳丹;唐敏錦 | 申請（專利權）人： | 清華大學 |
| 主分類號： | G03F7/00 | 分類號： | G03F7/00;B81C1/00;G01B11/16 |
| 代理公司： | 北京清亦華知識產權代理事務所(普通合伙) 11201 | 代理人： | 張大威 |
| 地址： | 100084 北京*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 納米 制作方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種微納米散斑制作方法，其特征在于，包括：
A.利用計算機軟件生成優化散斑圖；
B.對硅片或石英片進行切割、清洗、烘干、涂覆抗蝕劑的預處理；
C.按照所述優化散斑圖，對所述硅片或石英片進行電子束曝光；
D.對曝光后的所述硅片或石英片進行顯影、刻蝕、去除殘留抗蝕劑、清洗的后處理，得到表面帶有所述優化散斑圖的散斑壓印模板；
E.對試件進行清洗，涂覆熱塑性膠；
F.將散斑壓印模板與所述試件緊密貼合，置于熱壓印箱平臺進行熱壓印；以及
G.脫模，對熱壓印后的所述試件進行刻蝕和去除殘留熱塑性膠，得到表面具有散斑圖的試件。
2.如權利要求1所述的制作方法，其特征在于：所述微納米散斑的直徑為50nm-1μm。
3.如權利要求1所述的制作方法，其特征在于：所述熱壓印的持續時間為5-10min。
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