[發明專利]電光調制器及其制造方法

在審

• 申請號: 201210500842.4
• 申請日: 2012-11-30
• 公開（公告）號: CN103852915A
• 公開（公告）日: 2014-06-11
• 發明（設計）人: 黃新舜
• 申請（專利權）人: 鴻富錦精密工業（深圳）有限公司;鴻海精密工業股份有限公司
• 主分類號: G02F1/035
• 分類號: G02F1/035
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種電光調制器，其包括一個基底及一個Y型光波導；該基底包括一個頂面；該對Y型光波導自該頂面向該基底內部擴散而成，并包括兩個分支；該基底在該頂面上、位于該兩個分支之間向該基底內部形成有一個間隔開該兩個分支的第一凹槽。

2.如權利要求1所述的電光調制器，其特征在于，該基底的材料采用鈮酸鋰晶體。

3.如權利要求1所述的電光調制器，其特征在于，該第一凹槽的深度大于該Y型光波導的深度。

4.如權利要求1所述的電光調制器，其特征在于，該Y型光波導包括一個入射段及一個出射段；該兩個分支從該入射段分出，并重新匯聚入該出射段；該兩個分支包括一個主分支及一個調制分支；該主分支與該入射段及該出射段形成直線的傳輸通道；該調制分支與該主分支平行；該Y型光波導還包括一個入射分叉及一個出射分叉；該入射分叉與該主分支自該入射段分叉并與該調制分支連接；該出射分叉與該主分支匯聚交叉入該出射段，并與該調制分支連結；該出射分叉與該主分支之間的夾角一般與該入射分叉與該主分支之間的夾角相同。

5.如權利要求4所述的電光調制器，其特征在于，該電光調制器還包括一對調制電極；該對調制電極分別設置于該調制分支兩側。

6.如權利要求4所述的電光調制器，其特征在于，該基底在該頂面上、位于該調制分支與該第一凹槽相背一側向該基底內部還形成有一個第二凹槽該第二凹槽與該第一凹槽關于該調制分支的中心線對稱該對調制電極分別設置于該第一凹槽及該第二凹槽內，且均包括一個垂直于該頂面的片狀部分；該片狀部分的高度大于該第一凹槽及第二凹槽的高度。

7.一種電光調制器的制造方法，其包括：

提供一個基底，該基底包括一個頂面；

在該頂面上向該基底內部形成一個第一凹槽；及

在該頂面上向該基底內部擴散形成一個Y型光波導，該Y型光波導包括兩個分別位于該第一凹槽兩側的分支。

8.如權利要求7所述的電光調制器的制造方法，其特征在于，該第一凹槽用氫氟酸濕式蝕刻的方式形成。

9.如權利要求7所述的電光調制器的制造方法，其特征在于，該Y型光波導通過以下步驟形成：

將700納米左右的鈦金屬膜鍍于該頂面；及

利用1020攝氏度左右的高溫將鈦金屬擴散入該基底。