[發(fā)明專利]新型硼酸锍絡(luò)合物

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210500505.5
• 申請日: 2008-03-18
• 公開（公告）號: CN103030659A
• 公開（公告）日: 2013-04-10
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 新家由久
• 申請（專利權(quán)）人: 索尼化學(xué)&信息部件株式會社
• 主分類號: C07F5/02
• 分類號: C07F5/02;C07C381/12
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 盧曼;李炳愛

本申請是申請?zhí)枮?00880018431.3(國際申請?zhí)枮镻CT/JP2008/054922)、申請日為2008年3月18日、發(fā)明名稱為“新型硼酸锍絡(luò)合物”的中國專利申請的分案申請。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及作為熱陽離子聚合引發(fā)劑有用的新型硼酸锍(sulfonium?borate)絡(luò)合物。

背景技術(shù)

一直以來，作為將IC芯片等電子部件安裝于配線基板時使用的一種粘合劑，使用的是含有環(huán)氧樹脂作為主成分的光致陽離子聚合性粘合劑。這樣的光致陽離子聚合性粘合劑中配合有由光產(chǎn)生質(zhì)子而引發(fā)陽離子聚合的光致陽離子聚合引發(fā)劑，作為該類光致陽離子聚合引發(fā)劑，已知銻酸锍(sulfonium?antimonate)絡(luò)合物。

但是，由于銻酸锍絡(luò)合物具有氟原子結(jié)合至金屬銻上的SbF6-作為抗衡陰離子(counter?anion)，因而在陽離子聚合時大量地產(chǎn)生氟離子，存在令金屬配線、連接襯墊腐蝕的問題。因此提出了使用硼酸锍絡(luò)合物作為陽離子聚合引發(fā)劑來代替SbF₆^-，所述硼酸锍絡(luò)合物使用了氟原子結(jié)合至碳原子上的四(五氟苯基)硼酸鹽陰離子[(C₆F₅)₄B^-](專利文獻1)，實際上，市售有下式(1c)的絡(luò)合物[對羥苯基-芐基-甲基锍四(五氟苯基)硼酸鹽]。

[化學(xué)式1]

但是，在將電子部件安裝至配線基板時，也多發(fā)生光線無法照射至接合部的情形。因此，嘗試將專利文獻1實施例中公開的具體的硼酸锍絡(luò)合物換用為用于熱陽離子聚合性粘合劑的熱陽離子聚合引發(fā)劑。該情形下，不僅減少了陽離子聚合時氟離子的生成量，使得熱陽離子聚合性粘合劑的耐電腐蝕性提高，而且提高了熱陽離子聚合性粘合劑的低溫快速固化性以提高生產(chǎn)率。

專利文獻1：日本特開平9-176112號公報

發(fā)明內(nèi)容

然而，在使用式(1c)的絡(luò)合物作為熱陽離子聚合引發(fā)劑時，雖然可以在一定程度上減少熱陽離子聚合時產(chǎn)生的氟離子的量，但低溫快速固化性卻談不上充分。

為解決上述現(xiàn)有的問題，本發(fā)明的目的在于提供新型硼酸锍絡(luò)合物，其可減少熱陽離子聚合時氟離子的生成量，并且可在熱陽離子聚合性粘合劑中實現(xiàn)低溫快速固化性。

本發(fā)明人發(fā)現(xiàn)，通過在硼酸锍絡(luò)合物的锍殘基上導(dǎo)入特定的三個取代基的新型組合，可以達成上述目的，從而完成了本發(fā)明。

即，本發(fā)明為式(1)表示的硼酸锍絡(luò)合物。

[化學(xué)式2]

式(1)中，R₁為芳烷基，R₂為低級烷基。其中，R₂為甲基時R₁不為芐基。X為鹵素原子，n為1～3的整數(shù)。

另外，本發(fā)明提供式(1)的硼酸锍絡(luò)合物的制備方法，該方法包括使式(2)的銻酸锍絡(luò)合物與式(3)的硼酸鈉反應(yīng)來獲得式(1)的硼酸锍絡(luò)合物。

[化學(xué)式3]

式(1)、(2)或(3)中，R₁為芳烷基，R₂為低級烷基。其中，R₂為甲基時R₁不為芐基。X為鹵素原子，n為1～3的整數(shù)。

本發(fā)明的新型的式(1)的硼酸锍絡(luò)合物的三個取代基成為新型的組合。因此，含有該絡(luò)合物作為熱陽離子聚合引發(fā)劑的熱陽離子性粘合劑在熱陽離子聚合時，不僅氟離子生成量減少，而且可以實現(xiàn)低溫快速固化性。

附圖說明

圖1為實施例1的硼酸锍絡(luò)合物的¹H-NMR譜圖。

圖2為實施例2的硼酸锍絡(luò)合物的¹H-NMR譜圖。

具體實施方式

本發(fā)明的新型化合物為式(1)表示的硼酸锍絡(luò)合物。

[化學(xué)式2]

式(1)中，作為R₁的芳烷基，可舉出：芐基、鄰甲基芐基、(1-萘基)甲基、吡啶基甲基、蒽基甲基等。其中，從良好的快速固化性和容易獲得的觀點考慮，優(yōu)選(1-萘基)甲基。

作為R₂的低級烷基，可舉出：甲基、乙基、丙基、丁基等。其中，從良好的快速固化性和容易獲得的觀點考慮，優(yōu)選甲基。其中，R₂的低級烷基為甲基時，前述R₁的芳烷基不為芐基。