[發明專利]減反光學組件及制造方法

有效

• 申請號: 201210499770.6
• 申請日: 2012-11-29
• 公開（公告）號: CN102998723A
• 公開（公告）日: 2013-03-27
• 發明（設計）人: 谷鋆鑫
• 申請（專利權）人: 法國圣戈班玻璃公司
• 主分類號: G02B1/11
• 分類號: G02B1/11
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 郎曉虹;李春暉

1.一種減反光學組件，其特征在于，包括：

基底；

位于所述基底表面的減反射層，所述減反射層包括由多個氧化鋅納米棒組成的氧化鋅納米棒陣列；以及

位于所述減反射層表面的覆蓋層，所述覆蓋層的材料為氧化硅、氧化鈦、氧化鋁和氧化鋯中的一種或多種。

2.如權利要求1所述的減反光學組件，其特征在于，所述覆蓋層的材料為氧化硅。

3.如權利要求1所述的減反光學組件，其特征在于，所述覆蓋層的厚度范圍為5nm-200nm。

4.如權利要求1所述的減反光學組件，其特征在于，所述氧化鋅納米棒陣列的多個氧化鋅納米棒的高度不同，從而所述減反射層具有蛾眼結構。

5.如權利要求1所述的減反光學組件，其特征在于，所述覆蓋層覆蓋所述多個氧化鋅納米棒的上部，從而所述覆蓋層和兩個相鄰的氧化鋅納米棒之間存在空隙。

6.一種減反光學組件，其特征在于，包括：

基底；

位于所述基底表面的減反射層，所述減反射層具有蛾眼結構，所述減反射層包括由多個凸起組成的凸起陣列；

位于所述減反射層表面的覆蓋層，所述覆蓋層的材料為氧化硅、氧化鈦、氧化鋁和氧化鋯中的一種或多種。

7.如權利要求6所述的減反光學組件，其特征在于，所述覆蓋層的厚度范圍為5nm~200nm。

8.如權利要求6所述的減反光學組件，其特征在于，所述基底的材料為玻璃、金屬、陶瓷或塑料。

9.如權利要求6所述的減反光學組件，其特征在于，所述減反射層的材料為氧化鋅、硅、氧化硅、氧化鈦、氮化硅、氧化鉭、氧化鋯、氧化鋁、氧化銦、氧化錫、氧化鎵、摻錫氧化銦、氟化摻錫氧化銦、摻氟氧化銦、摻鋁氧化鋅、摻鎵氧化鋅、硫化鋅、硒化鋅和氟化鎂中的一種或多種的任意組合。

10.如權利要求6所述的減反光學組件，其特征在于，所述減反射層的厚度范圍為100nm~2000nm。

11.如權利要求6所述的減反光學組件，其特征在于，還包括：位于所述覆蓋層表面的低表面能涂層。

12.如權利要求11所述的減反光學組件，其特征在于，所述低表面能涂層的材料為甲氧基硅烷、烷基硅烷、含氟硅烷和接枝硅氧烷鏈化合物中的一種或多種的任意組合。

13.如權利要求11或12所述的減反光學組件，其特征在于，所述低表面能涂層的厚度范圍為10nm~500nm。

14.如權利要求6所述的減反光學組件，其特征在于，所述凸起的形狀包括：錐形、圓柱形、棱柱形、球形、半球形和曲面柱形中的一種或多種。

15.如權利要求14所述的減反光學組件，其特征在于，所述覆蓋層覆蓋所述多個凸起的上部，從而所述覆蓋層和兩個相鄰的凸起之間存在空隙。

16.如權利要求6所述的減反光學組件，其特征在于，所述基底的材料為玻璃，所述減反射層為氧化鋅納米棒陣列，所述覆蓋層的材料為氧化硅。

17.一種減反光學組件的制造方法，其特征在于，包括：

提供基底；

在所述基底表面形成具有蛾眼結構的減反射層，所述減反射層包括由多個凸起組成的凸起陣列；

在所述減反射層的表面形成覆蓋層，所述覆蓋層的材料為氧化硅、氧化鈦、氧化鋁和氧化鋯中的一種或多種。

18.如權利要求17所述的減反光學組件的制造方法，其特征在于，所述減反射層為氧化鋅納米棒陣列；形成所述減反射層的步驟包括：

將有機酸鋅鹽溶解在乙醇溶液中，形成晶種溶液；

將所述晶種溶液形成在基底表面；

對所述基底進行加熱處理，在所述基底表面形成氧化鋅晶種；

將無機鋅鹽和堿性溶液混合，形成生長溶液；

將所述基底放置在所述生長溶液中，在所述氧化鋅晶種表面形成氧化鋅納米棒陣列。

19.如權利要求17所述的減反光學組件的制造方法，其特征在于，所述覆蓋層采用提拉涂膜、旋涂或噴灑方式中的至少一種方法形成。