[發明專利]一種激光蒸發鍍膜裝置

無效

• 申請號: 201210499769.3
• 申請日: 2012-11-28
• 公開（公告）號: CN102953033A
• 公開（公告）日: 2013-03-06
• 發明（設計）人: 粟婷;楊柳;劉昕
• 申請（專利權）人: 中山市創科科研技術服務有限公司
• 主分類號: C23C14/28
• 分類號: C23C14/28
• 代理公司: 中山市漢通知識產權代理事務所 44255
• 代理人: 田子榮;石仁

1.一種激光蒸發鍍膜裝置，其特征在于：包括

一真空反應腔，該真空反應腔的側壁密封設有一窗口；

一基板架，設于真空反應腔內，用以放置待鍍膜基板或基片；

一CO₂激光器，位于真空反應腔外并水平設置，其激光橫向發射并與所述窗口相對；

一He-Ne激光器，位于真空反應腔外并垂直設置，其激光縱向發射；

一分束鏡，位于真空反應腔外并呈45度角設于CO₂激光器與He-Ne激光器所發出的激光束的相交位置處；

一聚焦凸透鏡，設于分束鏡與窗口之間的光路上；

一散焦凹透鏡，設于聚焦凸透鏡與窗口之間的光路上；

一鉗鍋，設于真空反應腔內并位于基板架的下方，用以盛放待蒸發材料；以及

一反射鏡，設于真空反應腔內，并位于所述激光器、分束鏡、聚焦凸透鏡、散焦凹透鏡和窗口所共同形成的光路上，且位于所述鉗鍋上方，用以將所述激光器發出的激光在由外而內依次經過分束鏡、聚焦凸透鏡、散焦凹透鏡和窗口后，反射至所述鉗鍋內，對鉗鍋內的待蒸發材料進行激光加熱蒸發，從而在基板架上的基材或基片表面氣相沉積出含有所述待蒸發材料的膜層。

2.根據權利要求1所述的一種激光蒸發鍍膜裝置，其特征在于：所述鉗鍋與基板架之間還設有可調節的擋板，用以調節基材或基片表面的氣相沉積鍍膜范圍。

3.根據權利要求1或2所述的一種激光蒸發鍍膜裝置，其特征在于：所述真空反應腔的側壁上還設有一反射鏡調整裝置，用以改變所述反射鏡與鉗鍋的相對位置并改變激光加熱的范圍。

4.根據權利要求3所述的一種激光蒸發鍍膜裝置，其特征在于：所述反射鏡的反射面上還罩設有一可拆卸護板，用以防止反射鏡在激光加熱蒸發時被蒸汽分子玷污。

5.根據權利要求4所述的一種激光蒸發鍍膜裝置，其特征在于：所述護板為薄的透明玻璃板。

6.根據權利要求5所述的一種激光蒸發鍍膜裝置，其特征在于：所述窗口為由Ge或ZnSe材料制成的窗口。

7.根據權利要求6所述的一種激光蒸發鍍膜裝置，其特征在于：所述聚焦凸透鏡的位置可沿光路移動調節。