[發(fā)明專利]一種高選擇性太陽能吸熱納米膜層的配方及該膜層的制備方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210499702.X
• 申請日: 2012-11-29
• 公開（公告）號: CN102964886A
• 公開（公告）日: 2013-03-13
• 發(fā)明（設計）人: 王俊華;阮國成
• 申請（專利權）人: 安徽海太科新能源科技有限公司
• 主分類號: C09D1/00
• 分類號: C09D1/00;C09D5/32;C09D7/12;D04H3/033
• 代理公司: 安徽匯樸律師事務所 34116
• 代理人: 胡敏

1.一種高選擇性太陽能吸熱納米膜層的配方，其特征在于，按重量計，包括以下組分：

聚四氟乙烯納米粉，10～15份，粒徑小于或等于80nm，純度高于95%；

納米金屬鈦粉，12～18份，粒徑50～80nm，純度高于98%；

納米金屬鉻粉，3～8份，粒徑20～50nm，純度高于98%；

多壁碳納米管，1～3份，直徑小于或等于20nm，長度小于或等于300nm；

納米氧化鎂：納米氧化硅的重量比為35:65，8～12份，粒徑小于或等于30nm，純度高于98%；

納米金屬錳，3～8份，粒徑50～80nm，純度高于98%；

表面活性劑，1～3份；

納米材料分散劑，1～3份；

超純水，40～50份。

2.一種如權利要求1所述的高選擇性太陽能吸熱納米膜層的制備方法，其特征在于：包括以下步驟：

（1）組分分散

將各組分按比例稱取后進行分散；

（2）基材除油除污

將基材表面進行除油和除污，然后進行鉻化處理；

（3）膜層制備

使用超高速高壓強磁技術將膜層材料沉積到基材上，微射速度4000～6000m/s，強磁電壓大于9萬伏，流量50～100cc/S，氣壓大于6MPa；

（4）高溫燒結

對制備上膜層的基材進行高溫燒結除去超純水，燒結工藝設定為：200～280℃燒結5min，300～380℃燒結5min，400～450℃燒結5min。

3.根據權利要求2所述的一種高選擇性太陽能吸熱納米膜層的制備方法，其特征在于：所述步驟（1）包括以下步驟：

1）將聚四氟乙烯納米粉、超純水和表面活性劑放入球磨分散機中；

2）然后再將納米氧化鎂、納米氧化硅、納米材料分散劑放入球磨分散機進行分散2min；

3）依次加入其它納米材料在球磨分散機中預分散15min，然后在納米球磨分散研磨一體機中分散3～6h；

4）用高壓微射流分散機分散步驟3）得到的混合納米材料，至少循環(huán)分散四次，壓力為600～800MPa，出料口口徑為0.1mm，料溫低于22℃。

4.根據權利要求2所述的一種高選擇性太陽能吸熱納米膜層的制備方法，其特征在于：所述基材為鋁卷或銅卷。

5.根據權利要求2所述的一種高選擇性太陽能吸熱納米膜層的制備方法，其特征在于：所述步驟（2）中，鉻化液和超純水的重量比為45:55，鉻化膜厚度小于或等于10nm，烘干溫度為25～50℃。