[發明專利]一種激光標記方法及裝置

有效

• 申請號: 201210499331.5
• 申請日: 2012-11-29
• 公開（公告）號: CN103847243A
• 公開（公告）日: 2014-06-11
• 發明（設計）人: 賀志軍;孟方;杜明;陳克勝;高云峰
• 申請（專利權）人: 深圳市大族激光科技股份有限公司
• 主分類號: B41J2/435
• 分類號: B41J2/435
• 代理公司: 深圳中一專利商標事務所 44237
• 代理人: 張全文

技術領域

本發明屬于激光標記領域，尤其涉及一種激光標記方法及裝置。

背景技術

隨著市場對激光標記設備加工工藝的認可，激光標記設備的應用越來越廣。

目前，在激光標記時，解決激光標記幅面過小的方法是：在聚焦鏡的前面加一個位置可變的擴束鏡，通過控制擴束鏡的移動以實現動態聚焦；當XY掃描振鏡將激光束掃描遠離原點后,仍可將焦點保持在工件的表面，在一定程度上增加了激光標記的范圍。

上述解決激光標記幅面過小的方法仍然無法實現對非平面的不規則工件和對運動中的工件進行激光標記；再者，目前存在著不能同時控制電機和控制振鏡的尷尬。

發明內容

本發明實施例的目的在于提供一種激光標記方法，以解決現有激光標記技術無法實現對平面或非平面的待標記對象中的非直線的待標記線條采用激光標記技術進行標記的問題。

本發明實施例是這樣實現的，一種激光標記方法，所述方法包括：

獲取待標記對象的模型，所述待標記對象的模型為待標記對象的表面模型，所述表面模型為平面模型或非平面模型；

根據所述待標記對象的模型，將所述待標記對象的模型上的待標記線條與所述待標記對象的待標記線條重合以進行精確標記，所述待標記線條為直線線條或非直線線條；

根據所述待標記線條和標記內容，通過插補算法得到控制電機的第一控制參數和控制振鏡的第二控制參數，所述標記內容由標記點組成，所述標記內容分布在所述待標記線條上；

根據所述第一控制參數和所述第二控制參數，采用激光，控制電機和控制振鏡對待標記對象進行標記。

進一步地，在根據所述待標記線條和所述標記內容，通過插補算法得到控制電機的第一控制參數和控制振鏡的第二控制參數，所述標記內容由標記點組成，所述標記內容分布在所述待標記線條上的步驟之前，還包括如下步驟：

將所述待標記線條按預定的長度分成線條段。

若所述線條段為曲線段，則將所述曲線段轉換為直線段。

進一步地，所述通過插補算法得到控制電機的第一控制參數，具體包括：

判斷第一標記點與第二標記點在三維坐標系中的X軸坐標、Y軸坐標和Z軸坐標是否分別相同，

若否，則獲取通過插補算法將所述第一標記點移動至所述第二標記點的第一控制參數，所述第一控制參數包括通過插補算法將所述第一標記點移動至所述第二標記點的所述X軸坐標的移動控制參數、所述Y軸坐標的移動控制參數和所述Z軸坐標的移動控制參數，

所述標記內容包括所述第一標記點和所述第二標記點，所述第一標記點與所述第二標記點相鄰，所述第一標記點為已標記點，所述第二標記點為待標記點。

進一步地，所述通過插補算法得到控制振鏡的第二控制參數，具體包括：

判斷激光束方向是否與線條上的待標記點所在的切線垂直，

若否，獲取調整振鏡角度到所述激光束方向與所述切線垂直的第二控制參數。

進一步地，在根據所述第一控制參數和所述第二控制參數，采用激光，控制電機和控制振鏡對待標記對象進行標記的步驟之前，還包括以下步驟：

根據深度能量表，獲取所述激光的激光能量值，所述深度能量表記錄了標記深度與所述激光能量值的映射關系。

本發明的另一目的在于提供一種激光標記裝置，所述裝置包括：

模型獲取單元，用于獲取待標記對象的模型，所述待標記對象的模型為待標記對象的表面模型，所述表面模型為平面模型或非平面模型；

重合單元，用于根據所述待標記對象的模型，將所述待標記對象的模型上的待標記線條與所述待標記對象的待標記線條重合以進行精確標記，所述待標記線條為直線線條或非直線線條；

參數單元，用于根據所述待標記線條和標記內容，通過插補算法得到控制電機的第一控制參數和控制振鏡的第二控制參數，所述標記內容由標記點組成，所述標記內容分布在所述待標記線條上；

標記單元，用于根據所述第一控制參數和所述第二控制參數，采用激光，控制電機和控制振鏡對待標記對象進行標記。

進一步地，所述裝置還包括：

分段單元，用于將所述待標記線條按預定的長度分成線條段。

所述分段單元還包括：

直線分段單元，用于若所述線條段為曲線段，則將所述曲線段轉換為直線段。

進一步地，所述參數單元還包括：

第一控制參數單元，用于判斷第一標記點與第二標記點在三維坐標系中的X軸坐標、Y軸坐標和Z軸坐標是否分別相同，