[發明專利]一種處理高濃度印染退漿廢水及好氧剩余污泥的工藝

有效

• 申請號: 201210497932.2
• 申請日: 2012-11-29
• 公開（公告）號: CN102923859A
• 公開（公告）日: 2013-02-13
• 發明（設計）人: 王力民;羅維新;孫國慶;韓其儒;周新民;李志海;張炳營;王緒山;劉新利;于濤
• 申請（專利權）人: 華紡股份有限公司
• 主分類號: C02F3/30
• 分類號: C02F3/30;C02F3/34;C02F103/30
• 代理公司: 濟南舜源專利事務所有限公司 37205
• 代理人: 侯緒軍

1.一種處理高濃度印染退漿廢水及好氧剩余污泥的工藝，其特征在于：工藝步驟為：

a、向IC厭氧池中加入接種污泥后，將印染退漿廢水排入IC厭氧池，同時向IC厭氧池加入工業葡萄糖，接種污泥中的水解酸化菌、甲烷菌與退漿廢水中的70%-85%的溶解性污染物發生水解及甲烷化反應，生成甲烷和二氧化碳；

b、印染退漿廢水之外的原水，經初步沉淀去除懸浮雜質后，排入好氧池，好氧池回流硝化液至缺氧池；

c、IC厭氧池出水與好氧池回流硝化液共同排入間歇缺氧池，缺氧池中的上清液排入好氧池，缺氧池中的剩余污泥排入CSTR厭氧消化池，CSTR厭氧消化池中的上清液回排到間歇缺氧池，CSTR厭氧消化池中剩余污泥排入壓濾機脫水；

d、好氧池中的水COD達到500mg/l以下外排。

2.根據權利要求1所述的一種處理高濃度印染退漿廢水及好氧剩余污泥的工藝，其特征在于：所述的IC厭氧池反應器高度為18米，工業葡萄糖加入量為原水中COD濃度的1%-3%，退漿廢水進入IC厭氧池后，水溫控制在35-38℃，厭氧水力停留時間為4-6天，上升流速為6-8?m/h。

3.根據權利要求1所述的一種處理高濃度印染退漿廢水及好氧剩余污泥的工藝，其特征在于：間歇缺氧池中同時發生反硝化、硫氧化、污泥吸附增殖和污泥濃宿，缺氧池利用厭氧排水中的碳源與好氧池排放的硝化液發生充分的反硝化反應生成二氧化碳和氮氣，利用無色硫細菌將硫離子（S^2-）氧化為硫單質（S⁰），回流硝化液中的好氧菌充分吸收混合液中溶解性的有機物并得到增殖，絮狀活性污泥網捕厭氧池出水中的懸浮顆粒和硫粒，使污泥濃縮沉淀。

4.根據權利要求1或3中所述的一種處理高濃度印染退漿廢水及好氧剩余污泥的工藝，其特征在于：缺氧池為一個回形池，兩端交替進出水，實現系統連續進水的同時，利用反應池本身作為沉淀池，兩端各鋪設10米穿孔管實現污泥回流和剩余污泥排放，間歇缺氧池中水力停留時間為2-2.5天，采用曝氣方式為微孔曝氣。

5.根據權利要求1中所述的一種處理高濃度印染退漿廢水及好氧剩余污泥的工藝，其特征在于：CSTR厭氧消化池采用上流式脈沖布水，水力停留15-17天，上升流速3m/h，用氣提管將剩余污泥排至帶式壓濾機進行脫水處理。

6.根據權利要求1中所述的一種處理高濃度印染退漿廢水及好氧剩余污泥的工藝，其特征在于：好氧池采用的活性污泥法，水力停留時間1.5-2天，曝氣氣水比為25-30:1，污泥濃度為4500-5500mg/l。