[發明專利]一種制備銦靶材金屬薄膜的方法

有效

• 申請號: 201210497497.3
• 申請日: 2012-11-29
• 公開（公告）號: CN102925868A
• 公開（公告）日: 2013-02-13
• 發明（設計）人: 黃信二
• 申請（專利權）人: 研創應用材料（贛州）有限公司
• 主分類號: C23C14/34
• 分類號: C23C14/34;C23C14/06;H01L31/18
• 代理公司: 江西省專利事務所 36100
• 代理人: 楊志宇

1.一種制備銦靶材金屬薄膜的方法，其特征為：將銦金屬中添加原子百分比為2-10%?的銅做成濺鍍制程用的直徑3寸的靶材，把所需鍍著玻璃基材放入濺鍍腔體中，以真空抽氣系統將濺鍍腔體背景壓力抽至0.7×10^-5-0.9×10^-5?torr后，利用氬氣當作工作氣體，透過節流閥將通入氬氣控制濺鍍腔體的工作壓力為1×10^-2torr，以直流功率100瓦進行60分鐘的濺鍍制程，制得平坦化銦金屬薄膜。

2.一種制備銦靶材金屬薄膜的方法，其特征為：將銦金屬中添加原子百分比為6-10?%?的鋁做成濺鍍制程用的直徑3寸的靶材，把所需鍍著玻璃基材放入濺鍍腔體中，以真空抽氣系統將濺鍍腔體背景壓力抽至0.7×10^-5-0.9×10^-5?torr后，利用氬氣當作工作氣體，透過節流閥將通入氬氣控制濺鍍腔體的工作壓力為1×10^-2torr，以直流功率100瓦進行60分鐘的濺鍍制程，制得平坦化銦金屬薄膜。

3.一種制備銦靶材金屬薄膜的方法，其特征為：將銦金屬中添加原子百分比為10-20%?的銅和10-20%的鋁做成濺鍍制程用的直徑3寸的靶材，把所需鍍著玻璃基材放入濺鍍腔體中，以真空抽氣系統將濺鍍腔體背景壓力抽至0.7×10^-5-0.9×10^-5?torr后，利用氬氣當作工作氣體，透過節流閥將通入氬氣控制濺鍍腔體的工作壓力為1×10^-2torr，以直流功率100瓦進行60分鐘的濺鍍制程，制得平坦化銦金屬薄膜。

4.如權利要求1所述的一種制備銦靶材金屬薄膜的方法，其特征為：將銦金屬中添加原子百分比為6%的銅做成濺鍍制程用的直徑3寸的靶材，把所需鍍著玻璃基材放入濺鍍腔體中，以真空抽氣系統將濺鍍腔體背景壓力抽至0.8×10^-5torr后，利用氬氣當作工作氣體，透過節流閥將通入氬氣控制濺鍍腔體的工作壓力為1×10^-2torr，以直流功率100瓦進行60分鐘的濺鍍制程，制得平坦化銦金屬薄膜。

5.如權利要求2所述的一種制備銦靶材金屬薄膜的方法，其特征為：將銦金屬中添加原子百分比為8%的鋁做成濺鍍制程用的直徑3寸的靶材，把所需鍍著玻璃基材放入濺鍍腔體中，以真空抽氣系統將濺鍍腔體背景壓力抽至0.8×10^-5torr后，利用氬氣當作工作氣體，透過節流閥將通入氬氣控制濺鍍腔體的工作壓力為1×10^-2torr，以直流功率100瓦進行60分鐘的濺鍍制程，制得平坦化銦金屬薄膜。

6.如權利要求3所述的一種制備銦靶材金屬薄膜的方法，其特征為：將銦金屬中添加原子百分比為15%?的銅和15%的鋁做成濺鍍制程用的直徑3寸的靶材，把所需鍍著玻璃基材放入濺鍍腔體中，以真空抽氣系統將濺鍍腔體背景壓力抽至0.8×10^-5?torr后，利用氬氣當作工作氣體，透過節流閥將通入氬氣控制濺鍍腔體的工作壓力為1×10^-2torr，以直流功率100瓦進行60分鐘的濺鍍制程，制得平坦化銦金屬薄膜。