[發明專利]偏移正交相移鍵控信號的產生方法及發射機

有效

• 申請號: 201210496860.X
• 申請日: 2012-11-29
• 公開（公告）號: CN103001921A
• 公開（公告）日: 2013-03-27
• 發明（設計）人: 金海鵬
• 申請（專利權）人: 泰凌微電子（上海）有限公司
• 主分類號: H04L27/38
• 分類號: H04L27/38
• 代理公司: 上海晨皓知識產權代理事務所(普通合伙) 31260
• 代理人: 盧剛

1.一種偏移四相相移鍵控信號的產生方法，其特征在于，包含以下步驟：

將含有同相I和正交Q兩路信息的偏移四相相移鍵控OQPSK信號轉化成一路調頻信號的輸入比特流；

將所述輸入比特流與異或掩模進行異或；其中，選擇不同的所述異或掩模用于取舍同相I和正交Q通道的相位關系和共軛關系；

將所述進行異或得到的比特流延時一個比特單位時間之后，與所述進行異或得到的比特流進行異或操作，得到等效比特流；

將所述得到的等效比特流映射到正負1/4波特率的頻偏上，采用2FSK調頻器根據映射后的比特流進行調制，得到與OQPSK信號完全等效的中心為載波頻率的射頻信號。

2.根據權利要求1所述的偏移四相相移鍵控信號的產生方法，其特征在于，在所述將所述輸入比特流與異或掩模進行異或的步驟中，包含以下子步驟：

生成無限重復的0110或0011序列，作為所述異或掩模。

3.根據權利要求2所述的偏移四相相移鍵控信號的產生方法，其特征在于，在所述將所述輸入比特流與異或掩模進行異或的步驟中，還包含以下子步驟：

選擇無限重復的0110序列為所述異或掩膜，取同相I分量的相位超前正交Q分量的相位90度。

4.根據權利要求2所述的偏移四相相移鍵控信號的產生方法，其特征在于，在所述將所述輸入比特流與異或掩模進行異或的步驟中，還包含以下子步驟：

選擇無限重復的0011序列為所述異或掩膜，取正交Q分量的相位超前同相I分量的相位90度。

5.根據權利要求1所述的偏移四相相移鍵控信號的產生方法，其特征在于，在所述將所述得到的等效比特流映射到正負1/4波特率的頻偏上的步驟中，包含以下子步驟：

將所述等效比特流中的0和1分別映射為1和-1；

將1和-1分別對應為1/4T和-1/4T的頻偏；其中，所述T是傳輸速率的倒數。

6.一種偏移四相相移鍵控信號發射機，其特征在于，包含：

數字轉換模塊，用于將含有同相I和正交Q兩路信息的OQPSK信號轉化成一路調頻信號的輸入比特流；

第一異或模塊，用于將所述數字轉換模塊轉換得到的輸入比特流與異或掩模進行異或；其中，選擇不同的所述異或掩模用于取舍同相I和正交Q通道的相位關系和共軛關系；

第二異或模塊，用于將所述第一異或模塊得到的比特流延時一個比特單位時間之后，與所述第一異或模塊得到的比特流進行異或操作，得到等效比特流；

調制模塊，用于將所述第二異或模塊得到的等效比特流映射到正負1/4波特率的頻偏上，采用2FSK調頻器根據映射后的比特流進行調制，得到與偏移四相相移鍵控OQPSK信號完全等效的中心為載波頻率的射頻信號。

7.根據權利要求6所述的偏移四相相移鍵控信號發射機，其特征在于，還包含掩膜產生模塊，用于生成所述異或掩膜；

所述異或掩膜是無限重復的0110或0011序列。

8.根據權利要求7所述的偏移四相相移鍵控信號發射機，其特征在于，還包含掩膜選擇模塊，用于選擇所述掩膜產生模塊生成的異或掩膜；

在所述掩膜選擇模塊選擇無限重復的0110序列時，所述第一異或模塊進行異或得到的比特流中同相I分量的相位超前正交Q分量的相位90度；

在所述掩膜選擇模塊選擇無限重復的0011序列時，所述第一異或模塊進行異或得到的比特流中正交Q分量的相位超前同相I分量的相位90度。

9.根據權利要求6所述的偏移四相相移鍵控信號發射機，其特征在于，所述調制模塊包含以下子模塊：

非歸零碼映射子模塊，用于將所述等效比特流中的0和1分別映射為1和-1；

頻偏對應子模塊，用于將1和-1分別對應為1/4T和-1/4T的頻偏；其中，所述T是傳輸速率的倒數。