[發(fā)明專利]光刻膠組合物

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210496282.X
• 申請日: 2005-11-24
• 公開（公告）號: CN103076720A
• 公開（公告）日: 2013-05-01
• 發(fā)明（設(shè)計）人: J·F·卡梅倫;S·J·姜;J·W·成
• 申請（專利權(quán)）人: 羅門哈斯電子材料有限公司
• 主分類號: G03F7/039
• 分類號: G03F7/039;G03F7/00
• 代理公司: 上海專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 31100
• 代理人: 陳哲鋒

1.一種光刻膠組合物，它包括：

i）包括一種或多種聚合物的樹脂組分，所述聚合物含有（i）芳香基團(tuán)和（ii）光酸不穩(wěn)定基團(tuán)；

ii）一種或多種光酸生成化合物；和

iii）一種或多種非聚合化合物，它含有（i）苯基、（ii）一個或多個光酸不穩(wěn)定縮醛基團(tuán)和（iii）一個或多個金剛烷基團(tuán)。

2.如權(quán)利要求1所述的光刻膠組合物，其特征在于所述一種或多種非聚合化合物含有酯基和/或醚基。

3.如權(quán)利要求1所述的光刻膠組合物，其特征在于所述一種或多種包括光酸不穩(wěn)定基團(tuán)的聚合物至少基本上不含芳基。

4.如權(quán)利要求1所述的光刻膠組合物，其特征在于所述樹脂組分包括一種或多種酚醛樹脂，所述酚醛樹脂包括光酸不穩(wěn)定基團(tuán)。

5.一種處理基材的方法，它包括：

在基材表面上施涂一層權(quán)利要求1所述的光刻膠組合物；和

將所述光刻膠層曝光于成圖形的輻照中，并顯影曝光的光刻膠組合物層。

6.一種處理基材的方法，它包括：

（a）在基材表面上施涂一層光刻膠組合物，所述光刻膠組合物包括：i）包括一種或多種聚合物的樹脂組分，所述聚合物含有（i）芳香基團(tuán)和（ii）光酸不穩(wěn)定基團(tuán)；ii）一種或多種光酸生成化合物；和iii）一種或多種非聚合化合物，它含有（i）苯基、（ii）一個或多個光酸不穩(wěn)定縮醛基團(tuán)和（iii）一個或多個金剛烷基團(tuán)；

（b）將所述光刻膠層曝光于波長為248nm的成圖形的輻照中，并顯影曝光的光刻膠組合物層。

7.一種制品，它包括其上涂有權(quán)利要求1所述光刻膠組合物的基材。

8.如權(quán)利要求7所述的制品，其特征在于所述基材是微電子半導(dǎo)體晶片基材。