[發(fā)明專利]一種新型顯影處理單元結構無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210494121.7 | 申請日： | 2012-11-28 |
| 公開（公告）號： | CN103034076A | 公開（公告）日： | 2013-04-10 |
| 發(fā)明（設計）人： | 何偉明;邢精成;朱駿;張旭昇 | 申請（專利權）人： | 上海華力微電子有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/30 | 分類號： | G03F7/30 |
| 代理公司： | 上海申新律師事務所 31272 | 代理人： | 竺路玲 |
| 地址： | 201210 上海市浦*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 新型 顯影 處理 單元 結構 | ||
【權利要求書】：
1.一種新型顯影處理單元結構，其特征在于，包括顯影臂、平臺、兩個或兩個以上噴嘴，所述顯影臂與所述平臺連接，所述平臺上設有連接面，所述噴嘴設于所述連接面上，所述連接面的面積大于或等于晶圓的面積。
2.如權利要求1所述的顯影處理單元結構，其特征在于，所述噴嘴均勻分布于所述連接面上。
3.如權利要求2所述的顯影處理單元結構，其特征在于，所述連接面為圓形。
4.如權利要求3所述的顯影處理單元結構，其特征在于，所述連接面的面積為8-12寸。
5.如權利要求4所述的顯影處理單元結構，其特征在于，還包括噴淋通道，所述噴淋通道的數(shù)量與所述噴嘴的數(shù)量相等，每一所述噴嘴分別與每一所述噴淋通道連接。
6.如權利要求5所述的顯影處理單元結構，其特征在于，還包括多個噴淋馬達，每一所述噴淋通道設有一個噴淋馬達。
7.如權利要求6所述的顯影處理單元結構，其特征在于，還包括保護槽和隔板，所述保護槽和隔板配合形成保護罩，所述保護罩設于所述平臺的上方，當不使用所述平臺時，將所述平臺置于所述保護罩中。
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