[發(fā)明專利]一種監(jiān)測航天器內(nèi)帶電電位的方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210491707.8 | 申請日: | 2012-11-27 |
| 公開(公告)號: | CN102944722A | 公開(公告)日: | 2013-02-27 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 石紅;楊生勝;薛玉雄;秦曉剛;田愷;柳青;安恒;楊青;李存惠;湯道坦 | 申請(專利權(quán))人: | 中國航天科技集團(tuán)公司第五研究院第五一〇研究所 |
| 主分類號: | G01R19/00 | 分類號: | G01R19/00 |
| 代理公司: | 北京理工大學(xué)專利中心 11120 | 代理人: | 楊志兵;付雷杰 |
| 地址: | 730000 甘*** | 國省代碼: | 甘肅;62 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 監(jiān)測 航天器 帶電 電位 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種監(jiān)測航天器內(nèi)帶電電位的方法,屬于抗輻射加固技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù)
航天器介質(zhì)深層帶電又稱之為航天器內(nèi)部介質(zhì)充電,是指空間高能帶電粒子穿過航天器表面,在航天器構(gòu)件的電介質(zhì)材料內(nèi)部傳輸并沉積從而建立電場的過程,當(dāng)介質(zhì)深層充電產(chǎn)生的電場強(qiáng)度超過介質(zhì)材料的擊穿閾值時,就會發(fā)生放電,放電所產(chǎn)生的電磁脈沖干擾可能破壞航天器內(nèi)電子學(xué)系統(tǒng)的正常工作。由于航天器電子學(xué)系統(tǒng)采用了集成度較高的大規(guī)模/超大規(guī)模微電子器件,電子學(xué)系統(tǒng)的性能提高的同時也變得對空間環(huán)境更為敏感,嚴(yán)重時會使整個航天器失效。
目前已經(jīng)搭載過的航天器深層介質(zhì)充電監(jiān)測儀通過直接測量導(dǎo)致深層介質(zhì)帶電的電子通量,再根據(jù)經(jīng)驗(yàn)判斷航天器的充電程度,但是不能直接精確測量深層介質(zhì)充電電位值。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種監(jiān)測航天器內(nèi)帶電電位的方法,所述方法采用多層電路板結(jié)構(gòu),可以實(shí)時監(jiān)測介質(zhì)層內(nèi)部各點(diǎn)的電位,所述方法采用的屏蔽外殼可以阻止能量200keV以下的電子,這樣可以只監(jiān)測內(nèi)帶電而排除表面充電的影響。
本發(fā)明的目的由以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn):
一種監(jiān)測航天器內(nèi)帶電電位的方法,所述方法步驟如下:
(1)制作內(nèi)帶電探頭
所述內(nèi)帶電探頭采用多層電路板結(jié)構(gòu),內(nèi)帶電探頭包括屏蔽外殼、多層電路板、電阻、靜電計(jì);其中,所述屏蔽外殼為上端開口的鋁質(zhì)殼體,屏蔽外殼側(cè)壁設(shè)有通孔用于穿過導(dǎo)線;所述多層電路板包括基板、介質(zhì)層和銅膜層,基板置于最底層,介質(zhì)層置于基板上方,介質(zhì)層和銅膜層分別有十層,交叉疊放;電阻和靜電計(jì)均為九個;
將多層電路板封裝并固定于屏蔽外殼內(nèi),多層電路板上表面與屏蔽外殼的上端開口相對,且多層電路板上、下表面均接地;多層電路板中的除最上層銅膜層以外的每層銅膜層均對應(yīng)一個電阻和一個靜電計(jì),即每層銅膜層與一個電阻和一個靜電計(jì)依次相連,九個靜電計(jì)均接地,且靜電計(jì)置于屏蔽外殼外部,電阻置于屏蔽外殼內(nèi)部;
其中,所述銅膜層采用濺射鍍膜的方法鍍到介質(zhì)層表面;
所述介質(zhì)層材料為聚四氟乙烯或聚酰亞胺,厚度為60μm;
所述銅膜層厚度為10μm;
所述屏蔽外殼材料為鋁,厚度為0.2mm;
(2)進(jìn)行電子束輻照試驗(yàn)
利用能量為1MeV,電流密度為65pA/cm2的電子束進(jìn)行輻照,電子束置于步驟(1)所述探頭上方,使入射電子從屏蔽外殼上端開口處垂直入射到多層電路板內(nèi)部,通過測量銅膜層上引出導(dǎo)線上的電位測量多層電路板介質(zhì)內(nèi)部不同深度處的電位,利用靜電計(jì)測得9根導(dǎo)線上的電壓;分別給出輻照10分鐘、20分鐘、30分鐘、1小時之后9根導(dǎo)線上的電壓。
有益效果
(1)本發(fā)明所述的監(jiān)測航天器內(nèi)帶電電位的方法,采用多層電路板結(jié)構(gòu),可以實(shí)時監(jiān)測介質(zhì)層內(nèi)部各點(diǎn)的電位;介質(zhì)內(nèi)帶電主要是由200keV的電子造成的,所述方法采用的屏蔽外殼可以阻止能量200keV以下的電子,這樣可以只監(jiān)測內(nèi)帶電而排除表面充電的影響。
(2)計(jì)算機(jī)仿真結(jié)果表明采用所述方法檢測介質(zhì)層內(nèi)部個點(diǎn)電位所得的結(jié)果是可靠的,證明了所述方法用于監(jiān)測航天器內(nèi)帶電電位的可行性。這對于航天器內(nèi)帶電在軌機(jī)理研究并最終形成航天器防護(hù)設(shè)計(jì)及實(shí)現(xiàn)航天器安全運(yùn)營維護(hù)都將大有裨益。
附圖說明
圖1為本發(fā)明所述方法中探頭的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2為本發(fā)明所述方法測得介質(zhì)內(nèi)部電位分布示意圖;
圖3為仿真模擬計(jì)算得到的介質(zhì)內(nèi)部電位分布示意圖;
其中,圖1中,1-1屏蔽外殼、1-2入射電子、1-3銅膜層、1-4介質(zhì)層、1-5電阻、1-6靜電計(jì);
圖2中橫坐標(biāo)為深度(單位:μm),縱坐標(biāo)為電壓(單位:V),2-1、2-2、2-3、2-4分別為輻照時間1小時、30分鐘、20分鐘、10分鐘的電位分布曲線;
圖3中橫坐標(biāo)為深度(單位:μm),縱坐標(biāo)為電壓(單位:V),3-1、3-2、3-3、3-4分別為輻照時間1小時、30分鐘、20分鐘、10分鐘的電位分布曲線。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合附圖和具體實(shí)施例來詳述本發(fā)明,但不限于此。
實(shí)施例1
一種監(jiān)測航天器內(nèi)帶電電位的方法,所述方法步驟如下:
(1)制作內(nèi)帶電探頭
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