[發(fā)明專(zhuān)利]一種高透光率的單銀低輻射玻璃有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201210487499.4 | 申請(qǐng)日: | 2012-11-26 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN102950841A | 公開(kāi)(公告)日: | 2013-03-06 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 楊柳;劉昕 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 中山市創(chuàng)科科研技術(shù)服務(wù)有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | B32B17/06 | 分類(lèi)號(hào): | B32B17/06;C03C17/36 |
| 代理公司: | 中山市漢通知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所 44255 | 代理人: | 田子榮;石仁 |
| 地址: | 528400 廣東省*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 透光率 單銀低 輻射 玻璃 | ||
技術(shù)領(lǐng)域:
本發(fā)明涉及一種高透光率的單銀低輻射玻璃。
背景技術(shù):
現(xiàn)有的玻璃,在實(shí)現(xiàn)防輻射功能的同時(shí),又導(dǎo)致其透光率較低,故有必要對(duì)現(xiàn)有的玻璃作出改進(jìn),以提供一種既能防輻射,又具有高透光率的玻璃。
發(fā)明內(nèi)容:
本發(fā)明的目的在于提供一種高透光率的單銀低輻射玻璃,其可在保證透光率的同時(shí),降低紅外輻射。
一種高透光率的單銀低輻射玻璃,包括玻璃基材,其特征在于:還包括由下而上依次設(shè)于玻璃基材上表面的一TiO2介質(zhì)層、一NbOx折射層、一CrNx阻擋層、一AZO平整層、一降輻射鍍Ag層、一CrNxOy膜層、以及一SnO2保護(hù)層。
作為上述方案的一種改進(jìn),所述TiO2介質(zhì)層的厚度為10~30nm。
作為上述方案的進(jìn)一步改進(jìn),所述NbOx折射層的厚度為5~10nm。
作為上述方案的進(jìn)一步改進(jìn),所述CrNx阻擋層的厚度為0.5~3nm。防止Ag被氧化。
作為上述方案的進(jìn)一步改進(jìn),所述AZO平整層的厚度為5~20nm。平滑所述CrNx阻擋層,為Ag層作鋪墊,降低輻射率。
作為上述方案的進(jìn)一步改進(jìn),所述降輻射鍍Ag層的厚度為7~10nm,可大大降低紅外輻射。
作為上述方案的進(jìn)一步改進(jìn),所述CrNxOy膜層的厚度為0.5~5nm??商岣吣幽湍バ浴⑻岣咄腹饴?、提高鋼化時(shí)抗高溫氧化性。
作為上述方案的進(jìn)一步改進(jìn),所述SnO2保護(hù)層的厚度為20~50nm。耐腐蝕性好。
本發(fā)明具有如下優(yōu)點(diǎn):其透光率可達(dá)83%,輻射率小于0.08。
附圖說(shuō)明:
圖1為本發(fā)明結(jié)構(gòu)剖視圖。
具體實(shí)施方式:
如圖所示,一種高透光率的單銀低輻射玻璃,包括玻璃基材1、以及由下而上依次設(shè)于玻璃基材1上表面的一TiO2介質(zhì)層2、一NbOx折射層3、一CrNx阻擋層4、一AZO平整層5、一降輻射鍍Ag層6、一CrNxOy膜層7、和一SnO2保護(hù)層8。
所述TiO2介質(zhì)層2的厚度為10~30nm。其采用磁控濺射鍍膜工藝,用交流中頻電源濺射陶瓷鈦靶,用氧氣作反應(yīng)氣體,將靶材上的材料打到玻璃基材表面,最終形成TiO2介質(zhì)層。
所述NbOx折射層3的厚度為5~10nm。其采用磁控濺射鍍膜工藝,用交流中頻電源濺射陶瓷鈮靶,最終在TiO2介質(zhì)層表面形成NbOx折射層。
所述CrNx阻擋層4的厚度為0.5~3nm。其采用磁控濺射鍍膜工藝,用直流電源濺射鉻靶,用氮?dú)庾鞣磻?yīng)氣體,最終在NbOx折射層表面形成CrNx阻擋層。
所述AZO平整層5的厚度為5~20nm。其采用磁控濺射鍍膜工藝,用中頻交流電源濺射陶瓷Zn(AZO)靶,最終在CrNx阻擋層表面形成AZO平整層,為Ag層作鋪墊,降低輻射率。
所述降輻射鍍Ag層6的厚度為7~10nm。其采用磁控濺射鍍膜工藝,用直流電源濺射銀靶,最終在AZO平整層表面形成降輻射鍍Ag層。
所述CrNxOy膜層7的厚度為0.5~5nm。其采用磁控濺射鍍膜工藝,用直流電源濺射鉻靶,用氮?dú)庾龇磻?yīng)氣體,滲少量氧氣,最終在降輻射鍍Ag層表面形成CrNxOy膜層,可提高膜層耐磨性、提高透光率、提高鋼化時(shí)抗高溫氧化性。
所述SnO2保護(hù)層8的厚度為20~50nm。其采用磁控濺射鍍膜工藝,用交流中頻電源濺射錫靶,用氧氣作反應(yīng)氣體,最終在CrNxOy膜層表面形成SnO2保護(hù)層,耐腐蝕性好。
以上所述僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例,并非用來(lái)限定本發(fā)明實(shí)施的范圍,凡依本發(fā)明專(zhuān)利范圍所做的同等變化與修飾,皆落入本發(fā)明專(zhuān)利涵蓋的范圍。
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