[發(fā)明專利]反光鏡及其制作工藝

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210487405.3
• 申請日: 2012-11-26
• 公開（公告）號: CN103837913A
• 公開（公告）日: 2014-06-04
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 劉靜;熊銘烽;李海燕
• 申請（專利權(quán)）人: 中國科學(xué)院理化技術(shù)研究所
• 主分類號: G02B5/08
• 分類號: G02B5/08
• 代理公司: 北京路浩知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11002
• 代理人: 王瑩

1.一種反光鏡，其特征在于，包括有：

可透光的基底；均勻涂覆于所述基底背面的反光薄膜，該反光薄膜由低熔點金屬墨水制成；

一保護膜，其涂覆于所述反光薄膜上，用于對所述反光薄膜進行封裝。

2.如權(quán)利要求1所述的反光鏡，其特征在于，所述反光薄膜通過噴涂、印刷、粉刷或筆型裝置中的至少一種均勻涂覆在該基底背面。

3.如權(quán)利要求1所述的反光鏡，其特征在于，所述低熔點金屬墨水由低熔點金屬復(fù)合材料制成；所述低熔點金屬復(fù)合材料為含有部分氧化物的低熔點金屬或含有部分氧化物的低熔點合金制成。

4.如權(quán)利要求3所述的反光鏡，其特征在于，所述低熔點金屬復(fù)合材料進一步添加有用于增強反射特性的納米顆粒材料。

5.如權(quán)利要求3或4所述的反光鏡，其特征在于，所述低熔點金屬復(fù)合材料由含有0.1wt%~10wt%氧化物的低熔點金屬或含有0.1wt%~10wt%氧化物的低熔點合金制成；

所述低熔點金屬包括鎵、鋅、錫、鈉、鉀和汞中的至少一種；所述低熔點合金包括鎵鋅合金、鎵銦合金、鎵錫合金、銦錫合金、鎵銦錫合金、鎵銦錫鋅合金、鎵銦錫鋅鉍合金、銅鎵銦合金、鋁鎵銦合金或鈉鉀合金中的至少一種。

6.一種反光鏡的制作工藝，其特征在于，包括以下步驟：

S1、制作低熔點金屬墨水；

S2、將所述低熔點金屬墨水均勻涂覆于一透光基底的背面，所述低熔點金屬墨水在透光基底背面形成反光薄膜；

S3、在所述反光薄膜上涂覆保護膜，用于對所述反光薄膜進行封裝。

7.如權(quán)利要求6所述的制作工藝，其特征在于，所述步驟S1進一步包括：

S11、以低熔點金屬復(fù)合材料配制成金屬流體，所述金屬流體能用于涂覆；

S12、在空氣中將所述金屬流體進行攪拌，形成低熔點金屬墨水。

8.如權(quán)利要求6所述的制作工藝，其特征在于，所述低熔點金屬墨水通過噴涂、印刷、粉刷或筆型裝置中的至少一種均勻涂覆在所述透光基底的背面，并形成反光薄膜。

9.如權(quán)利要求7所述的制作工藝，其特征在于，所述步驟S11前進一步包括：

S10、在所述低熔點金屬復(fù)合材料中添加用于增強反射特性的納米顆粒材料。

10.如權(quán)利要求7或9所述的制作工藝，其特征在于，所述低熔點金屬復(fù)合材料為含有部分氧化物的低熔點金屬或含有部分氧化物的低熔點合金制成。

11.如權(quán)利要求10所述的制作工藝，其特征在于，所述低熔點金屬復(fù)合材料由含有0.1wt%~10wt%氧化物的低熔點金屬或含有0.1wt%~10wt%氧化物的低熔點合金制成；

所述低熔點金屬包括鎵、鋅、錫、鈉、鉀和汞中的至少一種；所述低熔點合金包括鎵鋅合金、鎵銦合金、鎵錫合金、銦錫合金、鎵銦錫合金、鎵銦錫鋅合金、鎵銦錫鋅鉍合金、銅鎵銦合金、鋁鎵銦合金或鈉鉀合金中的至少一種。