[發(fā)明專利]一種免清洗鋁板的制備裝置

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210487377.5
• 申請日: 2012-11-26
• 公開（公告）號: CN102966214A
• 公開（公告）日: 2013-03-13
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 劉昕;楊柳;曹林站
• 申請（專利權(quán)）人: 中山市創(chuàng)科科研技術(shù)服務(wù)有限公司
• 主分類號: E04C2/08
• 分類號: E04C2/08;B05C5/02;B05C11/02;B05D3/02
• 代理公司: 中山市漢通知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所 44255
• 代理人: 田子榮;石仁

技術(shù)領(lǐng)域：

本發(fā)明涉及一種免清洗鋁板的制備裝置。

背景技術(shù)：

現(xiàn)有的鋁板，尤其是用于幕墻外的裝飾鋁板，因其不具備自潔功能，所以在安裝于室外幕墻后，由于受環(huán)境影響，需經(jīng)常清洗，否則鋁板上會因沾灰而嚴(yán)重影響外觀。故有必要提供一種可制備免清洗鋁板的裝置，使鋁板具有自潔功能。?

發(fā)明內(nèi)容：

本發(fā)明的目的在于提供一種免清洗鋁板的制備裝置，其結(jié)構(gòu)簡單，制備的鋁板具有自潔功能。

一種免清洗鋁板的制備裝置，其特征在于：包括

鋁板傳送機(jī)構(gòu)，用以傳送鋁板；

自潔液噴涂機(jī)構(gòu)，位于鋁板傳送機(jī)構(gòu)上方，用以將自潔液霧化后均勻噴涂在傳送來的鋁板表面；

刮板機(jī)構(gòu)，至少包括一位于鋁板傳送機(jī)構(gòu)上方、自潔液噴涂機(jī)構(gòu)之后的刮板，用以對涂布自潔液后的鋁板表面進(jìn)行涂刮，使自潔液涂布更均勻；以及

烘干機(jī)構(gòu)，位于鋁板傳送機(jī)構(gòu)上方、刮板機(jī)構(gòu)之后，用以對鋁板進(jìn)行烘干，使鋁板表面的自潔液結(jié)晶并形成自清潔膜。

作為上述方案的一種改進(jìn)，其還包括一與所述自潔液噴涂機(jī)構(gòu)相對應(yīng)的鋁板位置感應(yīng)模塊，所述自潔液噴涂機(jī)構(gòu)根據(jù)該鋁板位置感應(yīng)模塊所反饋的鋁板是否傳送至其下方的檢測信號而控制自潔液的噴涂。

作為上述方案的進(jìn)一步改進(jìn)，所述自潔液噴涂機(jī)構(gòu)至少包括一用以盛裝自潔液的容器、供料槽、用以將所述容器內(nèi)的自潔液泵到供料槽的蠕動泵、以及與供料槽連接的噴嘴。

作為上述方案的進(jìn)一步改進(jìn)，所述噴嘴的直徑為0.3mm。

作為上述方案的再一步改進(jìn)，所述烘干機(jī)構(gòu)對鋁板進(jìn)行烘干時，其烘干溫度為100度。

作為上述方案的再一步改進(jìn)，所述鋁板為用于幕墻外的裝飾鋁板。

作為上述方案的再一步改進(jìn)，所述自潔液為二氧化鈦溶膠。

附圖說明：

圖1為本發(fā)明示意圖。

具體實施方式：

如圖1所示，一種免清洗鋁板的制備裝置，包括鋁板傳送機(jī)構(gòu)5、自潔液噴涂機(jī)構(gòu)2、鋁板位置感應(yīng)模塊6、刮板機(jī)構(gòu)3、以及烘干機(jī)構(gòu)4。

所述鋁板傳送機(jī)構(gòu)，為若干個并列設(shè)置的滾筒，用以傳送鋁板1，所述鋁板1為用于幕墻外的裝飾鋁板。

所述自潔液噴涂機(jī)構(gòu)2，位于鋁板傳送機(jī)構(gòu)5上方，用以將自潔液霧化后均勻噴涂在傳送來的鋁板表面，所述自潔液為二氧化鈦溶膠。該自潔液噴涂機(jī)構(gòu)2至少包括一用以盛裝自潔液的容器、供料槽、用以將所述容器內(nèi)的自潔液泵到供料槽的蠕動泵、以及與供料槽連接的噴嘴，所述噴嘴的直徑為0.3mm。

所述鋁板位置感應(yīng)模塊6，與所述自潔液噴涂機(jī)構(gòu)2相對應(yīng)，用以檢測鋁板1是否傳送至所述自潔液噴涂機(jī)構(gòu)2的下方。所述自潔液噴涂機(jī)構(gòu)2根據(jù)該鋁板位置感應(yīng)模塊6所反饋的鋁板1是否傳送至其下方的檢測信號而控制自潔液的噴涂。

所述刮板機(jī)構(gòu)3，至少包括一位于鋁板傳送機(jī)構(gòu)5上方、自潔液噴涂機(jī)構(gòu)2之后的刮板，用以對涂布自潔液后的鋁板表面進(jìn)行涂刮，使自潔液涂布更均勻。

所述烘干機(jī)構(gòu)4，位于鋁板傳送機(jī)構(gòu)5上方、刮板機(jī)構(gòu)3之后，用以對鋁板1烘干至100度，使鋁板1表面的自潔液結(jié)晶并形成自清潔膜。

以上所述僅為本發(fā)明的較佳實施例，并非用來限定本發(fā)明實施的范圍，凡依本發(fā)明專利范圍所做的同等變化與修飾，皆落入本發(fā)明專利涵蓋的范圍。