[發(fā)明專利]陶瓷噴涂裝置無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210485109.X | 申請日: | 2012-11-21 |
| 公開(公告)號: | CN103834898A | 公開(公告)日: | 2014-06-04 |
| 發(fā)明(設計)人: | 朱洪卿 | 申請(專利權)人: | 無錫市天宇精密陶瓷制造有限公司 |
| 主分類號: | C23C4/12 | 分類號: | C23C4/12;C23C4/10 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 214000 江*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 陶瓷 噴涂 裝置 | ||
技術領域
本發(fā)明涉及陶瓷生產(chǎn)設備領域,尤其涉及一種旋轉體類陶瓷涂層生產(chǎn)設備。
背景技術
陶瓷制品生產(chǎn)中,經(jīng)常需要將陶瓷粉層依附在金屬、玻璃等基材表面;現(xiàn)有噴涂裝置,噴涂陶瓷粉末時噴涂不均勻、噴涂層過厚。
發(fā)明內容
本申請人針對上述的問題,設計了一種改良結構的陶瓷噴涂裝置。
本發(fā)明所采用的技術方案如下:
一種陶瓷噴涂裝置,包括一金屬制成的噴嘴,噴嘴前端連接有陰極,噴嘴與陰極之間加設直流電壓;噴嘴內,陰極兩側開有進氣通道;噴嘴內部,陰極軸向設有火焰通道通向噴嘴后端,火焰通道與進氣通道相連;噴嘴內部,火焰通道出口處,開有進粉孔,進粉孔與火焰通道相通。
其進一步技術方案在于:
所述噴嘴由紫銅制成;所述陰極由鈰、鎢合金制成。
本發(fā)明的有益效果如下:
帶有上述結構噴嘴的噴涂裝置,氣流可控、涂層薄而勻、工藝簡單,可以用來噴涂各種金屬氧化物、碳化物、硅化物、硼化物等陶瓷涂層。
附圖說明
圖1為本發(fā)明的噴嘴處的結構示意圖。
具體實施方式
下面結合附圖,說明本發(fā)明的具體實施方式。
如圖1所示,本發(fā)明包括一金屬制成的噴嘴1,噴嘴1前端連接有陰極2,噴嘴1與陰極2之間加設直流電壓;噴嘴1內,陰極2兩側開有進氣通道3;噴嘴1內部,陰極2軸向設有火焰通道4通向噴嘴1后端,火焰通道4與進氣通道3相連;噴嘴1內部,火焰通道4出口處,開有進粉孔5,進粉孔5與火焰通道4相通。
當直流電壓加在本發(fā)明的陰極和金屬噴嘴上,同時向進氣通道3通入氮、氬、氦或他們的混合惰性氣體,然后以高頻電流或短路的方法在火焰通道4內引燃穩(wěn)定的直流電弧,使連續(xù)經(jīng)進氣通道3進入火焰通道4的氣體吸收能量而形成溫度高達1000℃以上的等離子火焰7以及高速氣流。此時,被噴涂的陶瓷料粉經(jīng)過進粉孔5進入火焰通道4送入火焰中,立即被等離子火焰加熱至溶化狀態(tài),同時被高速氣流推出,撞擊在需涂覆成型的基材8表面,生成陶瓷涂層。
帶有上述結構噴嘴的噴涂裝置,氣流可控、涂層薄而勻、工藝簡單,可以用來噴涂各種金屬氧化物、碳化物、硅化物、硼化物等陶瓷涂層。
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- 專利分類
C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C4-00 熔融態(tài)覆層材料噴鍍法,例如火焰噴鍍法、等離子噴鍍法或放電噴鍍法的鍍覆
C23C4-02 .待鍍材料的預處理,例如為了在選定的表面區(qū)域鍍覆
C23C4-04 .以鍍覆材料為特征的
C23C4-12 .以噴鍍方法為特征的
C23C4-18 .后處理
C23C4-14 ..用于長形材料的鍍覆





