[發(fā)明專利]金屬圓柱定標(biāo)體雷達(dá)散射截面的計算方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210483182.3
• 申請日: 2012-11-23
• 公開（公告）號: CN103018729A
• 公開（公告）日: 2013-04-03
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 許小劍;賀飛揚(yáng);謝志杰
• 申請（專利權(quán)）人: 北京航空航天大學(xué)
• 主分類號: G01S7/41
• 分類號: G01S7/41
• 代理公司: 北京同立鈞成知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11205
• 代理人: 劉芳

1.一種金屬圓柱定標(biāo)體雷達(dá)散射截面的計算方法，其特征在于，包括：

給定金屬圓柱定標(biāo)體的幾何尺寸，所述尺寸包括所述給定金屬圓柱定標(biāo)體的半徑和高度；

采用MoM數(shù)值分析，計算得到所述給定金屬圓柱定標(biāo)體的第一總散射電場；

利用PO計算公式得到所述給定金屬圓柱定標(biāo)體的第一物理光學(xué)散射分量；

根據(jù)所述第一總散射電場和第一物理光學(xué)散射分量，計算得到所述給定金屬圓柱定標(biāo)體的第一表面波散射分量；

對所述第一表面波散射分量進(jìn)行歸一化處理，得到歸一化后的第一歸一化表面波散射分量；

采用CE模型對所述第一歸一化表面波散射分量進(jìn)行建模，以得到所述第一歸一化表面波散射分量與頻率的對應(yīng)函數(shù)；

利用PO計算公式得到待計算金屬圓柱定標(biāo)體的第二物理光學(xué)散射分量；

利用電磁理論中的縮比原理，根據(jù)所述對應(yīng)函數(shù)以及第二物理光學(xué)散射分量，計算得到所述待計算金屬圓柱定標(biāo)體的第二總散射電場。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的計算方法，其特征在于，所述采用MoM數(shù)值分析，計算得到所述給定金屬圓柱定標(biāo)體的第一總散射電場，包括：

采用第一公式計算得到所述第一總散射電場E_C(f)；

其中，所述第一公式為：E_C(f)=E_MoM(f)，

式中，E_MoM(f)為所述給定金屬圓柱定標(biāo)體總散射電場與頻率的對應(yīng)關(guān)系表達(dá)式。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的計算方法，其特征在于，所述利用PO計算公式得到所述給定金屬圓柱定標(biāo)體的第一物理光學(xué)散射分量，包括：

采用第二公式計算得到所述第一物理光學(xué)散射分量E_PO(f)；

其中，所述第二公式為：式中，f為雷達(dá)頻率，為波數(shù)，λ為波長，a為給定金屬圓柱定標(biāo)體的半徑，h為給定金屬圓柱定標(biāo)體的高。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的計算方法，其特征在于，所述根據(jù)所述第一總散射電場和第一物理光學(xué)散射分量，計算得到所述給定金屬圓柱定標(biāo)體的第一表面波散射分量，包括：

采用第三公式計算得到所述第一表面波散射分量E_SW(f)；

其中，所述第三公式為：E_SW(f)=E_NoM(f)-E_PO(f)。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的計算方法，其特征在于，所述對所述第一表面波散射分量進(jìn)行歸一化處理，得到歸一化后的第一歸一化表面波散射分量，包括：

采用第四公式計算得到所述第一歸一化表面波散射分量

其中，所述第四公式為：E^SW(f)=EMoM(f)|EPO(f)|-1.]]>