[發(fā)明專利]一種用堿性銅蝕刻廢液生產(chǎn)氧化銅和氨水的方法和設(shè)備有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201210480749.1 | 申請(qǐng)日: | 2012-11-22 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN102925704A | 公開(kāi)(公告)日: | 2013-02-13 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 徐全林;尤政輝;徐補(bǔ)林;程曉蘇 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 上海綠澄環(huán)保科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | C22B7/00 | 分類號(hào): | C22B7/00;C02F1/66;C02F1/58;C02F1/62;C02F1/20;C23F1/46;C22B15/00;C01C1/10;C02F101/16;C02F101/20;C02F103/16 |
| 代理公司: | 上海三方專利事務(wù)所 31127 | 代理人: | 吳干權(quán) |
| 地址: | 201707 上*** | 國(guó)省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 堿性 蝕刻 廢液 生產(chǎn) 氧化銅 氨水 方法 設(shè)備 | ||
1.一種印刷電路板堿性蝕刻廢液回收銅方法,堿性蝕刻廢液中主要包含Cu(NH3)4Cl2,其特征在于:將所述的堿性蝕刻液和水蒸汽混合,溫度控制在60-80℃,加入質(zhì)量濃度為30%的氫氧化鈉溶液,經(jīng)過(guò)式(1)的反應(yīng):
過(guò)濾回收反應(yīng)后的堿性蝕刻廢液得到CuO。
2.如權(quán)利要求1所述的印刷電路板堿性蝕刻廢液回收銅方法,其特征在于:所述的式(1)反應(yīng)的反應(yīng)時(shí)間為3~4小時(shí)。
3.如權(quán)利要求1所述的印刷電路板堿性蝕刻廢液回收銅方法,其特征在于:經(jīng)過(guò)式(1)反應(yīng)得到的氨氣通過(guò)水進(jìn)行冷凝吸收。
4.如權(quán)利要求3所述的印刷電路板堿性蝕刻廢液回收銅方法,其特征在于:氨氣通過(guò)水的噴淋進(jìn)行冷凝吸收。
5.如權(quán)利要求1所述的印刷電路板堿性蝕刻廢液回收銅方法,其特征在于:回收反應(yīng)后的堿性蝕刻廢液得到的CuO經(jīng)過(guò)水沖洗和真空干燥。
6.如權(quán)利要求5所述的印刷電路板堿性蝕刻廢液回收銅方法,其特征在于:所述的真空干燥溫度為105℃。
7.如權(quán)利要求5所述的印刷電路板堿性蝕刻廢液回收銅方法,其特征在于:所述的洗滌,當(dāng)洗滌洗出的廢水PH呈中性時(shí)結(jié)束洗滌。
8.如權(quán)利要求1所述的印刷電路板堿性蝕刻廢液回收銅方法,其特征在于:堿性蝕刻廢液的銅離子含量為120-160g/L,pH為8-10。
9.如權(quán)利要求1所述的印刷電路板堿性蝕刻廢液回收銅方法,其特征在于:所述的氫氧化鈉的摩爾總用量是堿性蝕刻廢液中Cu(NH3)4Cl2摩爾總量的2~2.4倍。
10.一種權(quán)利要求1所述印刷電路板堿性蝕刻廢液回收銅方法的設(shè)備,包括堿性蝕刻廢液的出口管道、蒸汽管道、投料管道、泵、反應(yīng)釜、噴淋塔、離心機(jī)、洗滌槽和真空干燥機(jī),應(yīng)釜頂部設(shè)有第一出口、底部設(shè)有第二出口,離心機(jī)頂部設(shè)有第三出口、底部設(shè)有第四出口,洗滌槽上設(shè)有洗滌液出口和被洗物出口,其特征在于所述的堿性蝕刻廢液出口管道出口與泵進(jìn)口連接,泵出口與與反應(yīng)釜進(jìn)口通過(guò)管道連接,所述的蒸汽管道與反應(yīng)器底部連通,所述的投料管道與反應(yīng)器頂部連通,第一出口與與噴淋塔進(jìn)口通過(guò)管道連接,所述的第二出口與離心機(jī)進(jìn)口連接,第三出口與洗滌槽進(jìn)口連接,洗滌槽的被洗物出口與所述的真空干燥劑進(jìn)口連接。
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