[發(fā)明專利]一種去除光阻殘留物的清洗液

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201210480049.2
• 申請(qǐng)日: 2012-11-22
• 公開（公告）號(hào): CN103838092A
• 公開（公告）日: 2014-06-04
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 劉兵;彭洪修;孫廣勝;顏金荔
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 安集微電子科技（上海）有限公司
• 主分類號(hào): G03F7/42
• 分類號(hào): G03F7/42
• 代理公司: 上海翰鴻律師事務(wù)所 31246
• 代理人: 李佳銘

1.一種去除光阻殘留物的清洗液，其特征在于，所述清洗液包括季胺氫氧化物，醇胺，溶劑以及聚醚改性有機(jī)硅。

2.如權(quán)利要求1所述的清洗液，其特征在于，所述季胺氫氧化物的含量為0.1-6wt%。

3.如權(quán)利要求2所述的清洗液，其特征在于，所述季胺氫氧化物的含量為0.5-3.5wt%。

4.如權(quán)利要求1所述的清洗液，其特征在于，所述醇胺的含量為0.1-20wt%。

5.如權(quán)利要求4所述的清洗液，其特征在于，所述醇胺的含量為0.5-10wt%。

6.如權(quán)利要求1所述的清洗液，其特征在于，所述聚醚改性有機(jī)硅的含量為0.01~3wt%。

7.如權(quán)利要求6所述的清洗液，其特征在于，所述聚醚改性有機(jī)硅的含量為0.05-1wt%。

8.如權(quán)利要求1所述的清洗液，其特征在于，所述清洗液中余量為有機(jī)溶劑。

9.如權(quán)利要求1所述的清洗液，其特征在于，所述的季胺氫氧化物選自四甲基氫氧化銨、四乙基氫氧化銨、四丙基氫氧化銨、四丁基氫氧化銨、十六烷基三甲基氫氧化銨和芐基三甲基氫氧化銨中的一種或多種。

10.如權(quán)利要求1所述的清洗液，其特征在于，所述的醇胺選自單乙醇胺、N-甲基乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、異丙醇胺、乙基二乙醇胺、N，N-二乙基乙醇胺、N-(2-氨基乙基)乙醇胺和二甘醇胺。優(yōu)選單乙醇胺、三乙醇胺及其混合物。

11.如權(quán)利要求1所述的清洗液，其特征在于，所述的溶劑選自亞砜、砜、咪唑烷酮、吡咯烷酮、咪唑啉酮、酰胺和醇醚中的一種或多種。

12.如權(quán)利要求11所述的清洗液，其特征在于，所述的亞砜選自二甲基亞砜和甲乙基亞砜中的一種或多種；所述的砜較選自甲基砜、環(huán)丁砜中的一種或多種；所述的咪唑烷酮選自2-咪唑烷酮和1,3-二甲基-2-咪唑烷酮中的一種或多種；所述的吡咯烷酮選自N-甲基吡咯烷酮、N-環(huán)己基吡咯烷酮和N-羥乙基吡咯烷酮中的一種或多種；所述的咪唑啉酮為1,3-二甲基-2-咪唑啉酮；所述的酰胺選自二甲基甲酰胺和二甲基乙酰胺中的一種或多種；所述的醇醚選自二乙二醇單甲醚、二乙二醇單丁醚和二丙二醇單甲醚中的一種或多種。

13.如權(quán)利要求1所述的清洗液，其特征在于，所述清洗液不含有研磨顆粒，羥胺和/或氟化物。