[發明專利]一種新型真空高壓銅鉻系觸頭材料的制備方法

有效

• 申請號: 201210479659.0
• 申請日: 2012-11-23
• 公開（公告）號: CN102943189A
• 公開（公告）日: 2013-02-27
• 發明（設計）人: 王成磊;高原;徐晉勇;張光耀;蔡航偉;馬志康
• 申請（專利權）人: 桂林電子科技大學
• 主分類號: C22C9/00
• 分類號: C22C9/00;C22C1/02;H01H1/025
• 代理公司: 桂林市華杰專利商標事務所有限責任公司 45112
• 代理人: 巢雄輝

1.一種新型真空高壓銅鉻系觸頭材料的制備方法，其特征是：包括如下步驟：

（1）首先將銅粉和鉻粉按一定比例混合，用料重量百分比為銅︰鉻=45～90%︰10～55%，采用冶金熔煉的方法，形成銅-鉻合金，并在上述冶金熔煉過程中加入鎢、鉬、鉭、鈮、鋯、鈦、銻、碲、鉍、鋅、錫或稀土金屬中至少一種，加入量為0.01%～0.5%，作為脫氧劑和細化劑，或者不加；

（2）冷卻后，采用激光束快速掃描銅-鉻合金表面，實施重熔。

2.根據權利要求1所述的制備方法，其特征是：所述冶金熔煉和激光快速掃描過程可以在高真空狀態或在惰性保護性氣氛下進行。

3.根據權利要求1所述的制備方法，其特征是：所述激光束快速掃描的工藝參數為：工作氣體CO₂，Ar，He，比例為1：10～20：20～40；激光功率3～5kW；光斑直徑2～6mm；掃描速率100～300mm/min；搭接率20%～40%。