[發(fā)明專利]激光能量控制方法和系統(tǒng)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210478832.5 | 申請日: | 2012-11-22 |
| 公開(公告)號: | CN102946046A | 公開(公告)日: | 2013-02-27 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 王苗;陳克勝;孟方;王建波;高云峰 | 申請(專利權(quán))人: | 深圳市大族激光科技股份有限公司 |
| 主分類號: | H01S3/10 | 分類號: | H01S3/10;H01S5/06 |
| 代理公司: | 廣州華進聯(lián)合專利商標代理有限公司 44224 | 代理人: | 何平 |
| 地址: | 518000 廣東省深*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 激光 能量 控制 方法 系統(tǒng) | ||
1.一種激光能量控制方法,包括如下步驟:
獲取激光器的平均發(fā)射功率;
判斷所述平均發(fā)射功率和存儲器中的預(yù)設(shè)功率之間的大小;
根據(jù)判斷結(jié)果調(diào)整所述激光器的激光發(fā)射脈沖占空比以使所述平均發(fā)射功率趨于預(yù)設(shè)功率。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的激光能量控制方法,其特征在于,所述獲取激光器的平均發(fā)射功率的步驟為:
通過探測激光熱量獲取激光器的發(fā)射功率;
根據(jù)所述發(fā)射功率計算平均發(fā)射功率。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的激光能量控制方法,其特征在于,所述根據(jù)判斷結(jié)果調(diào)整所述激光器的激光發(fā)射脈沖占空比以使所述平均發(fā)射功率趨于預(yù)設(shè)功率的步驟為:
若所述平均發(fā)射功率大于預(yù)設(shè)功率,則減少所述激光發(fā)射脈沖占空比;
若所述平均發(fā)射功率小于預(yù)設(shè)功率,則增加所述激光發(fā)射脈沖占空比。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的激光能量控制方法,其特征在于,所述根據(jù)判斷結(jié)果調(diào)整所述激光器的發(fā)射時間使所述平均發(fā)射功率趨于預(yù)設(shè)功率的步驟為:
若所述平均發(fā)射功率大于預(yù)設(shè)功率,則按預(yù)設(shè)的能量等級逐步減少激光發(fā)射脈沖占空比;
若所述平均發(fā)射功率小于預(yù)設(shè)功率,則按預(yù)設(shè)的能量等級逐步增加激光發(fā)射脈沖占空比。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的激光能量控制方法,其特征在于,所述方法還包括將激光器在預(yù)設(shè)參數(shù)下穩(wěn)定工作時的發(fā)射功率保存到存儲器中作為預(yù)設(shè)功率的步驟。
6.一種激光能量控制系統(tǒng),其特征在于,包括:
獲取模塊,用于獲取激光器的平均發(fā)射功率;
判斷模塊,用于判斷所述平均發(fā)射功率和存儲器中的預(yù)設(shè)功率之間的大小;
調(diào)整模塊,用于根據(jù)判斷結(jié)果調(diào)整所述激光器的激光發(fā)射脈沖占空比使所述平均發(fā)射功率趨于預(yù)設(shè)功率。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的激光能量控制系統(tǒng),其特征在于,所述獲取模塊還用于通過探測激光熱量獲取激光器的發(fā)射功率,并根據(jù)所述發(fā)射功率計算平均發(fā)射功率。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的激光能量控制系統(tǒng),其特征在于,所述調(diào)整模塊還用于在所述平均發(fā)射功率大于預(yù)設(shè)功率時,減少所述激光發(fā)射脈沖占空比,以及在所述平均發(fā)射功率小于預(yù)設(shè)功率時,增加所述激光發(fā)射脈沖占空比。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的激光能量控制系統(tǒng),其特征在于,所述調(diào)整模塊還用于在所述平均發(fā)射功率大于預(yù)設(shè)功率時,按預(yù)設(shè)的能量等級逐步減少激光發(fā)射脈沖占空比,以及在所述平均發(fā)射功率小于預(yù)設(shè)功率時按預(yù)設(shè)的能量等級逐步增加激光發(fā)射脈沖占空比。
10.根據(jù)權(quán)利要求6所述的激光能量控制系統(tǒng),其特征在于,所述系統(tǒng)還包括:
存儲模塊,用于將激光器在預(yù)設(shè)參數(shù)下穩(wěn)定工作時的發(fā)射功率保存到存儲器中作為預(yù)設(shè)功率。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于深圳市大族激光科技股份有限公司,未經(jīng)深圳市大族激光科技股份有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201210478832.5/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
H01S 利用受激發(fā)射的器件
H01S3-00 激光器,即利用受激發(fā)射對紅外光、可見光或紫外線進行產(chǎn)生、放大、調(diào)制、解調(diào)或變頻的器件
H01S3-02 .結(jié)構(gòu)零部件
H01S3-05 .光學(xué)諧振器的結(jié)構(gòu)或形狀;包括激活介質(zhì)的調(diào)節(jié);激活介質(zhì)的形狀
H01S3-09 .激勵的方法或裝置,例如泵激勵
H01S3-098 .模式鎖定;模式抑制
H01S3-10 .控制輻射的強度、頻率、相位、極化或方向,例如開關(guān)、選通、調(diào)制或解調(diào)





