[發明專利]蝕刻掩模用組合物及圖案形成方法

在審

• 申請號: 201210478704.0
• 申請日: 2012-11-22
• 公開（公告）號: CN103149800A
• 公開（公告）日: 2013-06-12
• 發明（設計）人: 富田浩明;吉井靖博;平井隆昭
• 申請（專利權）人: 東京應化工業株式會社
• 主分類號: G03F7/09
• 分類號: G03F7/09;G03F7/00;H01L31/18
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 蔣亭

技術領域

本發明涉及一種作為蝕刻太陽能電池用基板時的掩模劑來使用的蝕刻掩模用組合物。

背景技術

在太陽能電池制造工序中，在局部地對基板進行蝕刻處理時使用了掩模劑。以往，該工序中使用的是光致抗蝕劑，然而現在出于削減工序數的目的，正在研究印刷型抗蝕劑的應用。作為對太陽能電池用基板進行蝕刻處理時的蝕刻液，可以使用氫氟酸、硝酸等強酸。由此，作為印刷型抗蝕劑所要求的特性，需要對蝕刻時的蝕刻液的耐酸性、能夠利用印刷法進行圖案形成。

專利文獻

專利文獻1：日本特開平9-293888號公報

光致抗蝕劑中所使用的丙烯酸樹脂在耐酸性的方面不夠充分，難以作為太陽能電池基板蝕刻用的掩模劑來使用。另外，利用在光致抗蝕劑中使用的低沸點溶劑所制作的墨液的印刷的穩定性不足，因此難以形成良好的圖案。

發明內容

本發明是鑒于此種課題而完成的，其目的在于，提供一種可以提高將蝕刻掩模用組合物印刷于太陽能電池用基板上時的耐酸性及印刷穩定性的技術。

本發明的一種方式是一種蝕刻掩模用組合物。該蝕刻掩模用組合物含有酚醛清漆樹脂(A)、和沸點為190℃以上的溶劑(B)，前述溶劑(B)相對于全部溶劑的含量為70質量％以上，并且是非感光性的。

根據上述方式的蝕刻掩模用組合物，可以提高印刷于太陽能電池用基板時的耐酸性及印刷穩定性。

在上述方式的蝕刻掩模用組合物中，還可具有硅系、丙烯酸系或氟系的表面活性劑(C)。

本發明的其他的方式是一種圖案形成方法。該圖案形成方法包括：使用上述任一種方式的太陽能電池用基板的蝕刻掩模用組合物，利用印刷法在基板上形成掩模圖案的工序；烘烤掩模圖案的工序；將基板蝕刻并將掩模圖案轉印的工序；以及除去掩模圖案的工序。

附圖說明

圖1中的圖1(A)～圖1(C)是表示在基板上的圖案形成工序的概略剖面圖。

具體實施方式

參照優選的實施方式來對本發明進行說明。這些實施方式是例示性的，并不限定本發明的范圍。

實施方式中的蝕刻掩模用組合物是非感光性的，可以很好地用作局部地對太陽能電池用基板進行蝕刻處理時所使用的蝕刻掩模。

實施方式中的蝕刻掩模用組合物包含：酚醛清漆樹脂(A)、和沸點為190℃以上的溶劑(B)。

作為酚醛清漆樹脂(A)，可舉出使下述例示的酚類與下述例示的醛類在鹽酸、硫酸、甲酸、草酸、對甲苯磺酸等酸性催化劑下進行反應而得的酚醛清漆樹脂等。

作為酚類，例如可舉出苯酚；間甲酚、對甲酚、鄰甲酚等甲酚類；2，3-二甲酚、2，5-二甲酚、3，5-二甲酚、3，4-二甲酚等二甲酚類；間乙基苯酚、對乙基苯酚、鄰乙基苯酚、2，3，5-三甲基苯酚、2，3，5-三乙基苯酚、4-叔丁基苯酚、3-叔丁基苯酚、2-叔丁基苯酚、2-叔丁基-4-甲基苯酚、2-叔丁基-5-甲基苯酚等烷基苯酚類；對甲氧基苯酚、間甲氧基苯酚、對乙氧基苯酚、間乙氧基苯酚、對丙氧基苯酚、間丙氧基苯酚等烷氧基苯酚類；鄰異丙烯基苯酚、對異丙烯基苯酚、2-甲基-4-異丙烯基苯酚、2-乙基-4-異丙烯基苯酚等異丙烯基苯酚類；苯基苯酚等芳基苯酚類；4，4’-二羥基聯苯、雙酚A、間苯二酚、對苯二酚、連苯三酚等多羥基苯酚類等。它們既可以單獨使用，也可以組合使用2種以上。這些酚類中，特別優選為間甲酚、對甲酚。

作為醛類，例如可舉出甲醛、對甲醛、三噁烷、乙醛、丙醛、丁醛、三甲基乙醛、丙烯醛、巴豆醛、環己醛、糠醛、呋喃基丙烯醛、苯甲醛、對苯二甲醛、苯基乙醛、α-苯基丙醛、β-苯基丙醛、鄰羥基苯甲醛、間羥基苯甲醛、對羥基苯甲醛、鄰甲基苯甲醛、間甲基苯甲醛、對甲基苯甲醛、鄰氯苯甲醛、間氯苯甲醛、對氯苯甲醛、肉桂醛等。它們既可以單獨使用，也可以組合使用2種以上。這些醛類中，從獲取的容易性考慮，優選為甲醛。

酚醛清漆樹脂(A)既可以由1種酚醛清漆樹脂構成，也可以由2種以上的酚醛清漆樹脂構成。在酚醛清漆樹脂(A)由2種以上的酚醛清漆樹脂構成的情況下，各個酚醛清漆樹脂的Mw沒有特別限定，然而優選作為酚醛清漆樹脂(A)整體，而將其制備成Mw達到1000～100000。特別是在使用噴墨印刷法的情況下，作為(A)整體，而優選制備成Mw達到1000～3000。而且，酚醛清漆樹脂(A)優選在蝕刻掩模用組合物中含有30～70質量％。在使用噴墨印刷法的情況下，在蝕刻掩模用組合物中，優選含有10～30質量％。另外，酚醛清漆樹脂(A)優選在蝕刻掩模用組合物的固體成分中為90質量％以上，更優選為95質量％以上，特別優選為98質量％以上。