[發(fā)明專利]光電編碼器的刻度盤及其制造方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210477727.X
• 申請日: 2012-11-21
• 公開（公告）號: CN103134531B
• 公開（公告）日: 2017-10-27
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 青木敏彥;前田不二雄;富樫理彥
• 申請（專利權(quán)）人: 株式會社三豐
• 主分類號: G01D5/347
• 分類號: G01D5/347
• 代理公司: 北京林達劉知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙)11277
• 代理人: 劉新宇,張會華

1.一種光電編碼器的刻度盤，所述刻度盤包括：

基部構(gòu)件，所述基部構(gòu)件具有表面且所述表面的整個區(qū)域粗糙化；和

金屬光柵，所述金屬光柵通過鍍敷形成于所述基部構(gòu)件的粗糙化了的表面并且在所述基部構(gòu)件上以預(yù)定間距排列，

其中所述金屬光柵由已黑化的金屬膜制成；和

所述基部構(gòu)件的表面的整個區(qū)域被粗糙化增加了所述金屬光柵相對于所述基部構(gòu)件的附著性。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光電編碼器的刻度盤，其特征在于，

所述基部構(gòu)件是導(dǎo)電性的且具有光反射面的基部構(gòu)件。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光電編碼器的刻度盤，其特征在于，

所述基部構(gòu)件是光吸收性或透過性基部構(gòu)件。

4.一種光電編碼器的刻度盤的制造方法，所述方法包括如下步驟：

使基部構(gòu)件的表面的整個區(qū)域粗糙化以增加金屬光柵相對于所述基部構(gòu)件的附著性；并且

通過鍍敷在所述基部構(gòu)件的已經(jīng)經(jīng)受了所述粗糙化的表面形成金屬光柵，使得所述金屬光柵以預(yù)定間距排列；

其中，所述金屬光柵由已黑化的金屬膜制成。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的光電編碼器的刻度盤的制造方法，其特征在于，

形成所述金屬光柵的步驟包括如下步驟：

在所述基部構(gòu)件的已經(jīng)經(jīng)受了所述粗糙化的表面通過鍍敷形成金屬膜；

在所述金屬膜上以預(yù)定間距形成抗蝕劑；并且

通過利用所述抗蝕劑作為掩模來蝕刻所述金屬膜而在所述基部構(gòu)件上以所述預(yù)定間距形成所述金屬光柵。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的光電編碼器的刻度盤的制造方法，其特征在于，進一步包括：

在所述基部構(gòu)件的所述表面形成導(dǎo)電性光反射膜。

7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的光電編碼器的刻度盤的制造方法，其特征在于，

形成所述金屬光柵的步驟包括如下步驟：

在所述基部構(gòu)件的已經(jīng)經(jīng)受了所述粗糙化的所述表面以預(yù)定間距形成抗蝕劑；

通過鍍敷在所述基部構(gòu)件的所述表面上位于所述抗蝕劑之間的部分形成金屬膜；并且

通過去除所述抗蝕劑以預(yù)定間距在所述基部構(gòu)件上形成所述金屬光柵。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的光電編碼器的刻度盤的制造方法，其特征在于，進一步包括：

在所述基部構(gòu)件的所述表面形成導(dǎo)電性光反射膜。